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1. (WO2004062262) SYSTEME DE PROJECTION GROSSISSANT A GRAND CHAMP
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/062262    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/040951
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 22.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.06.2004    
CIB :
G03B 27/54 (2006.01)
Déposants : ULTRATECH STEPPER, INC. [US/US]; 3050 Zanker Road, San Jose, CA 95134 (US)
Inventeurs : MERCADO, Romeo, I.; (US)
Mandataire : JONES, Allston, L.; Peters, Verny, Jones & Schmitt, L.L.P., Suite 230, 425 Sherman Avenue, Palo Alto, CA 94306 (US)
Données relatives à la priorité :
10/330,567 27.12.2002 US
Titre (EN) LARGE-FIELD UNIT-MAGNIFICATION PROJECTION SYSTEM
(FR) SYSTEME DE PROJECTION GROSSISSANT A GRAND CHAMP
Abrégé : front page image
(EN)An optical system for projection photolithography is disclosed. The optical system is a modified Dyson system capable of imaging a large field over a broad spectral range. The optical system includes a positive lens group having three elements: a plano-convex element and two negative meniscus elements. The lens group is arranged adjacent to but spaced apart from a concave mirror along the mirror axis. A projection photolithography system that employs the optical system is also disclosed.
(FR)L'invention concerne un système optique de photolithographie par projection, qui est un système Dyson modifié pouvant présenter en image un grand champ sur une large gamme spectrale. Le système optique comprend un groupe de lentilles convergentes présentant trois éléments: un élément plano-convexe et des éléments à ménisque convergent. Le groupe de lentilles est arrangé adjacent à, mais espacé d'un miroir concave le long de l'axe du miroir. L'invention concerne également un système de photolithographie par projection utilisant le système optique.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)