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1. WO2004061893 - MACHINE DE TRAITEMENT UNIFORME DE SURFACES D’ECHANTILLONS PAR PROJECTION D’IONS MULTICHARGES.

Numéro de publication WO/2004/061893
Date de publication 22.07.2004
N° de la demande internationale PCT/FR2003/003744
Date du dépôt international 16.12.2003
CIB
C23C 14/22 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 14/48 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
48Implantation d'ions
H01J 37/06 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06Sources d'électrons; Canons à électrons
H01J 37/30 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
H01J 37/317 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
CPC
H01J 2237/0044
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
004Charge control of objects or beams
0041Neutralising arrangements
0044of objects being observed or treated
H01J 37/30
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
H01J 37/3053
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
305for casting, melting, evaporating or etching
3053for evaporating or etching
H01J 37/3171
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3171for ion implantation
Déposants
  • QPLUS [FR]/[FR] (AllExceptUS)
  • BORSONI, Gilles [FR]/[FR] (UsOnly)
  • SIMON, Bruno [FR]/[FR] (UsOnly)
Inventeurs
  • BORSONI, Gilles
  • SIMON, Bruno
Mandataires
  • BREESÉ, Pierre
Données relatives à la priorité
02/1612418.12.2002FR
Langue de publication français (FR)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) MACHINE FOR UNIFORM TREATMENT OF SAMPLE SURFACES BY MULTICHARGED ION PROJECTION
(FR) MACHINE DE TRAITEMENT UNIFORME DE SURFACES D’ECHANTILLONS PAR PROJECTION D’IONS MULTICHARGES.
Abrégé
(EN)
The invention relates to a machine for uniform treatment of sample surfaces by projection of multicharged low kinetic energy ions. The inventive machine comprises a unit which produces ion beam, is electrically insulated from the remaining part thereof and polarisable, electorstatic deceleration means which decelerates ions approaching the surface of a treated sample, scanning means for scanning the surface of the sample by a ion beam in order to obtain a desired uniformity of the treatment, mechanical supporting means for keeping the sample in such position that the surface thereof can be treated by the ion beam, and vacuum producing means arranged on vacuum chambers in which the treated sample is arranged and the ion beam circulates.
(FR)
La présente invention concerne une machine de traitement uniforme de surfaces d'échantillons (5) par projection d'ions multichargés de très basse énergie cinétique, caractérisée en ce qu'elle comporte - un ensemble de production de faisceau d'ions (9-20) isolable électriquement du reste de la machine et polarisable, - des moyens de décélération électrostatique (21-26) permettant la décélération des ions à l'approche de la surface de l'échantillon (3) à traiter, - des moyens de balayage (30) permettant à la surface de l'échantillon à traiter d'être balayée par le faisceau d'ions pour obtenir l'uniformité de traitement voulue, - des moyens de maintien mécanique d'échantillons (29) permettant de présenter la surface des échantillons à traiter face au faisceau d'ions pendant le traitement; - des moyens de production de vide montés sur des enceintes à vide à l'intérieur desquelles se situe l'échantillon à traiter et circule le faisceau d'ions.
Également publié en tant que
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