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1. (WO2004060896) PROCEDE DE PRODUCTION DE CEFPODOXIME PROXETIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/060896    N° de la demande internationale :    PCT/IN2003/000003
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 06.01.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.08.2004    
CIB :
C07D 501/00 (2006.01)
Déposants : LUPIN LIMITED [IN/IN]; 159 CST Road, Kalina, Santacruz (East), Mumbai 400 098 (IN) (Tous Sauf US).
GHARPURE, Milind, Moreshwar [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
DESHMUKH, Sanjay, Shankar [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
MAHALE, Rajendra, Dagesing [IN/IN]; (IN) (US Seulement)
Inventeurs : GHARPURE, Milind, Moreshwar; (IN).
DESHMUKH, Sanjay, Shankar; (IN).
MAHALE, Rajendra, Dagesing; (IN)
Mandataire : SUBRAMANIAM, Hariharan; Subramaniam, Nataraj & Associates, E-556, Greater Kailash-II, New Dehli 110 048 (IN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF CEFPODOXIME PROXETIL
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE CEFPODOXIME PROXETIL
Abrégé : front page image
(EN)A process for obtaining cefpodoxime proxetil of formula (I), of high purity conforming to pharmacopoeial specifications is disclosed. The process comprises addition of a solution of methanesulfonic acid in water to a solution of impure cefpodoxime proxetil of formula (I) in an organic solvent to form the corresponding cefpodoxime proxetil methanesulfonate of formula (II1), followed by addition of a co−solvent and separation of the aqueous phase containing cefpodoxime proxetil methanesulfonate of formula (II1) having a diastereomeric ratio of (R/R+S) between 0.5 to 0.6 and subsequent neutralization of the methaneulfonate salt (II1) with a base to give cefpodoxime proxetil (I) free of impurities and having a diastereomeric ratio of (R/R+S) between 0.5 to 0.6, or, addition of impure cefpodoxime proxetil of formula (I) to a solution of methanesulfonic acid in water to form the corresponding solution of cefpodoxime proxetil methanesulfonate of formula (II1) in water, followed by sequential addition of a first organic solvent and a co−solvent and separation of the aqueous phase containing cefpodoxime proxetil methanesulfonate of formula (II1) having a diastereomeric ratio of (R/R+S) between 0.5 to 0.6 and subsequent neutralization of the methaneulfonate salt (II1) with a base to give cefpodoxime proxetil (I) free of impurities and having a diastereomeric ratio of (R/R+S) between 0.5 to 0.6.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de cefpodoxime proxétil de formule (I) présentant un degré de pureté élevé conformément aux spécifications de la pharmacopée. Le procédé selon l'invention consiste : à ajouter une solution aqueuse d'acide méthane sulfonique, à une solution de cefpodoxime proxétil impur de formule (I) dans un solvant organique, pour former du méthanesulfonate de cefpodoxime proxétil de formule (II1) ; à ajouter un co-solvant et à séparer la phase aqueuse contenant ledit méthanesulfonate de cefpodoxime proxétil de formule (II1) dont le rapport diastéréoisomère (R/R+S) est compris entre 0,5 et 0,6, puis à neutraliser le sel de méthanesulfonate (II1) obtenu, au moyen d'une base pour obtenir du cefpodoxime proxétil (I) dépourvu d'impureté et présentant un rapport diastéréoisomère (R/R+S) compris entre 0,5 et 0,6 ; à ajouter du cefpodoxime proxétil (I) impur de formule (I) à une solution aqueuse d'acide méthane sulfonique, pour former la solution aqueuse correspondante de méthanesulfonate de cefpodoxime proxétil de formule (II1) ; à ajouter de manière séquentielle un premier solvant organique et un co-solvant, et à séparer la phase aqueuse contenant le méthanesulfonate de cefpodoxime proxétil de formule (II1) dont le rapport diastéréoisomère (R/R+S) est compris entre 0,5 et 0,6, puis à neutraliser le sel de méthanesulfonate (II1) obtenu, au moyen d'une base pour obtenir du cefpodoxime proxétil (I) dépourvu d'impureté et présentant un rapport diastéréoisomère (R/R+S) compris entre 0,5 et 0,6.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)