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1. (WO2004059689) PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE D'UN PLASMA DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE MATERIAUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059689    N° de la demande internationale :    PCT/IB2003/006458
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 25.11.2003
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; TBS Broadcast Center, 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP)
Inventeurs : KLEKOTKA, James, E.; (US)
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; Suzuye & Suzuye, 7-2, Kasumagaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
10/331,341 31.12.2002 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A PLASMA IN A MATERIAL PROCESSING SYSTEM
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE D'UN PLASMA DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE MATERIAUX
Abrégé : front page image
(EN)The present invention presents an improved apparatus and method for monitoring a material processing system (100), wherein the material processing system includes a plasma processing tool, a number of RF-responsive sensors (190) coupled to the plasma processing tool to generate and transmit plasma data, and a sensor interface assembly (SIA) (180) configured to receive the plasma data from the plurality of RF-responsive sensors.
(FR)L'invention porte sur un appareil amélioré (et le procédé associé) de surveillance d'un matériau comportant: un outil de traitement au plasma; plusieurs détecteurs sensibles aux RF reliés audit outil et produisant et transmettant des données relatives au plasma; et un ensemble d'interfaces de détecteurs recevant les données des différents détecteurs sensibles aux RF.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)