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1. (WO2004059401) PROCEDE D'ANALYSE D'UN SYSTEME PERMETTANT DE DETERMINER DES GRANDEURS DE MESURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059401    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/012754
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 14.11.2003
CIB :
G01D 1/16 (2006.01), G05B 23/02 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (Tous Sauf US).
ALTPETER, Reinhold [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOEVER, Georg [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEBER, Ingo [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ALTPETER, Reinhold; (DE).
HOEVER, Georg; (DE).
WEBER, Ingo; (US)
Représentant
commun :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Données relatives à la priorité :
102 55 959.7 29.11.2002 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR SYSTEMANALYSE ZUR FESTLEGUNG DER MESSGRÖSSEN
(EN) METHOD AND DEVICE FOR ANALYSING A TECHNICAL SYSTEM, IN ADDITION TO A COMPUTER PROGRAM PRODUCT
(FR) PROCEDE D'ANALYSE D'UN SYSTEME PERMETTANT DE DETERMINER DES GRANDEURS DE MESURE
Abrégé : front page image
(DE)Verfahren und Vorrichtung zur Analyse eines techniscehn Systems sowie Computerprogramm. Verfahren zum Entwurf eines technischen Systems, das durch Zustandsgrössen und Diagnosengrössen charakterisiert ist. In den Entwurf wird ein Messpark einbezogen, der erste Messgrössen umfasst, die mit einer vorgegebenen Genauigkeit gemessen werden. Ferner sind zweite Messgrössen mit einer vorgegebenen Genauigkeit messbar. In Verfahren werden Sensitivitätsgrössen für die Messgrössen bestimmt, wobei zur Bestimmung der ersten Sensitivitätsgrössen ermittelt wird, in welchem Masse eine Änderung der Genauigkeit der Messung der ersten Messgrössen wenigstens einen Parameter beeinflusst, und zur Bestimmung der zweiten Sensitivitätsgrössen ermittelt wird, in welchem Masse die Messung der zweiten Messgrössen wenigstens einen Parameter beeinflusst. Der Messpark wird daraufhin der art verändert, dass die Genauigkeit einer Messgrössen verändert aus dem Messpark herausgenommen und/oder oder zweite Messgrössen zum Messpark hinzugenommen werden.
(EN)The inventive system is used to design a technical system, which is characterised by condition variables and by diagnostic variables. A measurement field comprising first measured variables is incorporated into the design of the technical system, said first measured variables being measured with a predetermined accuracy. In addition, second measured variables can be measured with a predetermined accuracy. According to the inventive method, sensitivity variables are determined for the first measured variables. To determine said sensitivity variables, the extent to which a modification of the measurement accuracy of the first measured variables influences at least one parameter is calculated and to determine the second sensitivity variables, the extent to which the measurement of the second measured variables influences at least one parameter is calculated. The measurement field is then modified in such a way that the accuracy of the measured variables is altered, the first measured variables are removed from the measurement field and/or the second measured variables are added to the measurement field.
(FR)L'invention concerne un procédé d'étude d'un système technique caractérisé par des grandeurs d'état et des grandeurs de diagnostic. Un parc de mesure est inclus dans cette étude, lequel parc de mesure comprend des premières grandeurs de mesure mesurées avec une précision prédéfinie. De plus, des secondes grandeurs de mesure peuvent être mesurées avec une précision prédéfinie. Selon ledit procédé, des grandeurs de sensibilité sont déterminées pour ces grandeurs de mesure. Pour définir des premières grandeurs de sensibilité, on détermine dans quelle mesure une modification de la précision de mesure des premières grandeurs de mesure influe sur au moins un paramètre et, pour définir des secondes grandeurs de sensibilité, on détermine dans quelle mesure la mesure des secondes grandeurs de mesure influe sur au moins un paramètre. Le parc de mesure est ensuite modifié, de sorte que la précision des premières grandeurs de mesure est modifiée, des premières grandeurs de mesure sont retirées du parc de mesure et/ou des secondes grandeurs de mesure sont ajoutées au parc de mesure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)