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1. (WO2004058630) PROCEDE ET APPAREIL DE PURIFICATION D'HYDROGENE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/058630    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/040797
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 22.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.07.2004    
CIB :
B01D 53/047 (2006.01), C01B 3/56 (2006.01)
Déposants : PRAXAIR TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 39 Old Ridgebury Road, Danbury, CT 06810-5113 (US).
BAKSH, Mohamed, Safdar, Allie [US/US]; (US) (US Seulement).
ACKLEY, Mark, William [US/US]; (US) (US Seulement).
NOTARO, Frank [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BAKSH, Mohamed, Safdar, Allie; (US).
ACKLEY, Mark, William; (US).
NOTARO, Frank; (US)
Mandataire : ROSENBLUM, David, M.; Praxair, Inc., 39 Old Ridgebury Road, M1-557, Danbury, CT 06810-5113 (US)
Données relatives à la priorité :
60/436,314 24.12.2002 US
Titre (EN) PROCESS AND APPARATUS FOR HYDROGEN PURIFICATION
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE PURIFICATION D'HYDROGENE
Abrégé : front page image
(EN)This invention discloses an optimum set of adsorbents for use in H2-PSA processes. Each adsorbent bed is divided into four regions; Region 1 contains adsorbent for removing water; Region 2 contains a mixture of strong and weak adsorbents to remove bulk impurities like CO2; Region 3 contains a high bulk density (>38 lbm/ft3) adsorbent to remove remaining CO2; and most of CH4 and CO present in H2 containing feed mixtures; and Region 4 contains adsorbent having high Henry's law constants for the final cleanup of N2 and residual impurities to produce hydrogen at the desired high purity.
(FR)Cette invention concerne un ensemble optimum d'adsorbants à utiliser dans des procédés H 2 -PSA. Chaque lit d'adsorbant est divisé en quatre régions; la région 1 contient l'adsorbant pour enlever l'eau ; la région 2 contient un mélange des adsorbants forts et faibles pour enlever des impuretés en vrac telle que le Co 2 ; la région 3 contient une densité en vrac élevée (de > 38 lbm/ft3) d'adsorbant pour enlever le Co2 restant; et la majeure partie de CH 4 et de CO actuelle présente dans les mélanges alimentés contenant du H 2 ; et la région 4 contient l'adsorbant possédant des constantes élevées de la loi de Henry pour le nettoyage final de N 2 et d'impuretés résiduelles afin de produire de l'hydrogène à la pureté élevée recherchée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)