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1. WO2004034435 - COUCHES DE FOND ENTIREFLET OBTENUES A PARTIR DE COUCHES INTERNES A PETITES MOLECULES DE MULTIPLES FRACTIONS EPOXY

Numéro de publication WO/2004/034435
Date de publication 22.04.2004
N° de la demande internationale PCT/US2003/032091
Date du dépôt international 07.10.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 06.05.2004
CIB
C09B 69/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
BCOLORANTS ORGANIQUES OU COMPOSÉS ÉTROITEMENT APPARENTÉS POUR PRODUIRE DES COLORANTS; MORDANTS; LAQUES
69Colorants non prévus par un seul groupe de la présente sous-classe
G03F 7/09 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
09caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
CPC
C09B 69/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES ; , e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
69Dyes not provided for by a single group of this subclass
G03F 7/091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
091characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Y10S 430/111
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
430Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
1055Radiation sensitive composition or product or process of making
106Binder containing
111Polymer of unsaturated acid or ester
Y10T 428/31511
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
31504Composite [nonstructural laminate]
31511Of epoxy ether
Y10T 428/31515
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
31504Composite [nonstructural laminate]
31511Of epoxy ether
31515As intermediate layer
Déposants
  • BREWER SCIENCE, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • NEEF, Charles, J.
  • BHAVE, Mandar
  • FOWLER, Michelle
  • WINDSOR, Michelle
Mandataires
  • BORNMAN, Tracy, L.
Données relatives à la priorité
10/679,52106.10.2003US
60/417,21408.10.2002US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) BOTTOM ANTI-REFLECTIVE COATINGS DERIVED FROM SMALL CORE MOLECULES WITH MULTIPLE EPOXY MOIETIES
(FR) COUCHES DE FOND ENTIREFLET OBTENUES A PARTIR DE COUCHES INTERNES A PETITES MOLECULES DE MULTIPLES FRACTIONS EPOXY
Abrégé
(EN)
Novel anti-reflective coatings comprising small molecules (e.g., less than about 5,000 g/mole) in lieu of high molecular weight polymers and methods of using those coatings are provided. In one embodiment, aromatic carboxylic acids are used as the chromophores, and the resulting compounds are blended with a crosslinking agent and an acid. Anti-reflective coating films prepared according to the invention exhibit improved properties compared to high molecular weight polymeric anti-reflective coating films. The small molecule anti-reflective coatings have high etch rates and good via fill properties. Photolithographic processes carried out with the inventive material result in freestanding, 110-nm profiles.
(FR)
L'invention concerne de nouvelles couches antireflet comprenant de petites molécules (par exemple, moins d'environ 5,000 g/mole), au lieu de polymères à haut poids moléculaire, ainsi que des procédés d'utilisation de telles couches. Selon une forme d'exécution, des acides carboxyliques aromatiques sont utilisés comme chromophores, et les composés résultants sont mélangés avec un agent de réticulation et un acide. Des films à couches antireflet préparés conformément à l'invention présentent des propriétés améliorées, comparativement aux films à couches antireflet polymères à haut poids moléculaire. Les couches antireflet à petites molécules ont des vitesses de gravure élevées et de bonnes propriétés de remplissage traversant. Des procédés photolithographiques mis en oeuvre au moyen des produits de l'invention fournissent des profils distincts de 110 nm.
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