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1. WO2004003611 - ECRITURE DE STRUCTURES PHOTO-INDUITES

Numéro de publication WO/2004/003611
Date de publication 08.01.2004
N° de la demande internationale PCT/AU2003/000823
Date du dépôt international 27.06.2003
CIB
G02B 6/02 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
02Fibres optiques avec revêtement
G02B 6/122 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
122Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/124 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
122Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
124Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
G02B 6/13 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
13Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
B82Y 20/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
20Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
G02B 5/18
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
G02B 6/1225
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
1225comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
G02B 6/124
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
124Geodesic lenses or integrated gratings
G02B 6/13
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
Déposants
  • AUSTRALIAN PHOTONICS PTY LTD [AU]/[AU] (AllExceptUS)
  • THE UNIVERSITY OF SYDNEY [AU]/[AU] (AllExceptUS)
  • SCEATS, Mark [AU]/[AU] (UsOnly)
  • STEPANOV, Dmitrii, Yu [RU]/[AU] (UsOnly)
Inventeurs
  • SCEATS, Mark
  • STEPANOV, Dmitrii, Yu
Mandataires
  • FREEHILLS CARTER SMITH BEADLE
Données relatives à la priorité
PS 328428.06.2002AU
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) WRITING OF PHOTO-INDUCED STRUCTURES
(FR) ECRITURE DE STRUCTURES PHOTO-INDUITES
Abrégé
(EN) A method of writing a photo-induced structure into a photosensitive material substrate, the method comprising the steps of creating an interference pattern utilising at least two light beams, exposing the substrate to the interference pattern for photo-inducing material changes in the substrate, and creating an irregularity in the interference pattern by controlling a wavefront of at least one of the beams, for creating a functional defect in the photo-induced structure.
(FR) Procédé d'écriture d'une structure photo-induite dans un substrat en matériau photosensible. Ce procédé consiste à créer une configuration d'interférence au moyen d'au moins deux faisceaux lumineux, à exposer le substrat à cette configuration d'interférence afin de photo-induire des modifications matérielles dans le substrat et à créer une irrégularité dans la configuration d'interférence par contrôle d'un front d'ondes d'au moins un des faisceaux, de manière à créer un défaut fonctionnel dans la structure photo-induite.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international