(EN) A rotary type, mass-producing CVD film forming device having high-frequency power supplies and matching boxes fewer than film-forming chambers. The device is characterized by comprising a plurality of column-shaped film-forming chambers each storing a plastic container and provided circularly on a rotary support at equal intervals, a material gas introducing means for introducing a material gal into a container stored in each film-forming chamber via a material gas supply pipe doubling as an internal electrode, and a high-frequency wave supply means for supplying high-frequency wave to an external electrode doubling as part of each film-forming chamber.
(FR) L'invention concerne un dispositif de type rotatif destiné à la production en grandes quantités de pellicules de dépôt chimique en phase vapeur, présentant des sources de tension haute fréquence et un nombre plus important de boîtiers d'appariement que de chambres de production de couches. Le dispositif selon l'invention est caractérisé en ce qu'il comporte une pluralité de chambres de production de pellicules en forme de colonnes, contenant chacune un contenant plastique, et disposées circulairement sur un support rotatif à intervalles réguliers, un élément d'alimentation de gaz destiné à alimenter du gaz dans un contenant logé dans chaque chambre de production de pellicules, par l'intermédiaire d'un tuyau servant d'électrode interne, et un élément d'alimentation d'ondes haute fréquence destiné à alimenter des ondes haute fréquence à une électrode externe faisant partie de chaque chambre de production de pellicules.
(JA) 本発明の目的は、高周波電源及びマッチングボックスの数を成膜チャンバーの数よりも少なくしたロータリー型量産用CVD成膜装置を提供することである。本装置は、1本の柱状体形状で複数のプラスチック容器を1本毎に収容する成膜チャンバーを設け、成膜チャンバーをサークル状に均等間隔で回転支持体に配設し、内部電極を兼ねた原料ガス供給管を介して各成膜チャンバーに収容した容器の内部にプラズマ化させる原料ガスを導入する原料ガス導入手段を設け、各成膜チャンバーの一部を兼ねる外部電極に高周波を供給する高周波供給手段を設けたことを特徴とする。