(EN) A material subjected to vacuum evaporation that enables increasing the film formation rate and enhancing the controllability of film formation rate at the film formation of the electron beam evaporation process. The material subjected to vacuum evaporation is preferably constituted of MgO. The surface roughness (Ra) of the material subjected to vacuum evaporation is preferably set so as to fall within the range of 1.0 to 10 μm. The effective surface area, taking the unevenness of surface into account, of the material subjected to vacuum evaporation is preferably set so as to fall within the range of 200 to 1200 mm2. The outline volume of the material subjected to vacuum evaporation is preferably set so as to fall within the range of 30 to 1500 mm3. This material subjected to vacuum evaporation can be produced by performing mixing and/or granulation of a powdery raw material of 50 μm or greater average particle diameter into granulation powder and press molding of the granulation powder into a molded item.
(FR) Un matériau soumis à l'évaporation sous vide qui permet d'augmenter la vitesse de formation de films et d'améliorer la maîtrise de la vitesse de formation de films dans le procédé d'évaporation par faisceau électronique. De préférence, le matériau soumis à l'évaporation sous vide est constitué de MgO. La rugosité de surface (Ra) du matériau soumis à l'évaporation sous vide est préférablement fixée entre 1,0 et 10 $g(m)m. L'aire de surface effective, non uniformité de surface prise en compte, du matériau soumis à l'évaporation sous vide est préférablement fixée entre 200 et 1200 mm2. Le volume de contour du matériau soumis à l'évaporation sous vide est préférablement fixé entre 30 et 1500 mm3. Pour obtenir ce matériau soumis à l'évaporation sous vide, on soumet un matériau brut en poudre, dont l'indice granulométrique est d'au moins 50 $g(m)m, au mélange et/ou à l'évaporation pour obtenir une poudre granulaire laquelle est moulée par pressage pour former un article moulé.
