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1. (WO2003088329) RETICULE ET PROCEDE DE MESURE DE CARACTERISTIQUE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/088329    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/007342
Date de publication : 23.10.2003 Date de dépôt international : 19.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.10.2003    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 146-8501 (JP) (Tous Sauf US).
SHIODE, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIODE, Yoshihiro; (JP)
Mandataire : YAMADA, Ryuichi; Toko International Patent Office, Hasegawa Bldg. 4F, 7-7, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-114425 17.04.2002 JP
Titre (EN) RETICLE AND OPTICAL CHARACTERISTIC MEASURING METHOD
(FR) RETICULE ET PROCEDE DE MESURE DE CARACTERISTIQUE OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An optical characteristic measuring method for measuring the optical characteristic of a projection optical system (10a). A reticle (9) having a plurality of patterns (TP) are fed, scattering light from an aperture is directed to the plurality of patterns (TP), and light flux is irradiated onto the plurality of patterns from directions different from each other, so that images of the plurality of patterns are formed via the projection optical system (10a), each position of the plurality of pattern images is sensed, and the optical characteristic of the projection optical system is obtained by using the sensing result. Thus, it is possible to obtain an optical characteristic measuring method suitable for measuring the optical characteristic of the optical system, for example, the wave front aberration with high accuracy, and a reticle used therefor.
(FR)La présente invention a trait à un procédé de mesure de caractéristiques optiques permettant la mesure de la caractéristique optique d'un système de projection optique (10a). Un réticule (9) présentant une pluralité de configurations (TP) alimentées, diffusant de la lumière à partir d'une ouverture est orienté vers la pluralité de configurations (TP), et le flux lumineux est irradié sur la pluralité de configurations à partir de directions différentes les unes des autres, de sorte que les images de la pluralité de configurations sont formées via le système de projection optique (10a), chaque position de la pluralité d'images de configuration est captée, et la caractéristique optique du système de projection optique est obtenue en utilisant du résultat du captage. Ainsi, il est possible d'obtenir un procédé de mesure de caractéristique optique permettant de mesurer la caractéristique optique du système optique, par exemple, l'aberration de front d'onde avec une précision élevée, et on utilise un réticule à cet effet.
États désignés : CN, JP, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)