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1. (WO2003081654) SYSTEME DE CONTROLE SUR PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081654    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/001079
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 03.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.10.2003    
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/00 (2006.01)
Déposants : TOHOKU TECHNO ARCH CO., LTD. [JP/JP]; 468, Aza Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 980-0845 (JP) (Tous Sauf US).
SAMUKAWA, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHINMURA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKIGAWA, Mitsuru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SAMUKAWA, Seiji; (JP).
SHINMURA, Tadashi; (JP).
OKIGAWA, Mitsuru; (JP)
Mandataire : SHIGENOBU, Kazuo; 3F, Dainichikojimachi Bldg., 6-8, Kojimachi 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 102-0083 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-86196 26.03.2002 JP
Titre (EN) ON-WAFER MONITORING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE CONTROLE SUR PLAQUETTE
Abrégé : front page image
(EN)An on-wafer monitoring system (200) is placed at a position of a substrate to be treated in a plasma treatment device (100). The on-wafer monitoring system (200) includes various sensors, a data I/O unit (210) for optically inputting/outputting data to/from outside, and an internal power source unit (250) for supplying power to them. The on-wafer data I/O unit (210) is connected to a laser diode (LD) (320) and a photo diode (PD) (330) which are optical I/O units installed outside. The data I/O unit (210) receives an instruction from outside and transmits monitored data to outside. Sensors arranged on the substrate are an ion energy analyzer (400), a VUV photon detector (500), and a radical ion species emission spectrophotometer (600).
(FR)L'invention concerne un système de contrôle sur plaquette (200) monté dans une certaine position d'un substrat devant être traité dans un dispositif de traitement plasma (100). Ledit système de contrôle sur plaquette (200) comporte divers capteurs, une unité d'entrée et de sortie optique de données (210), et une source de courant interne (250). L'unité d'entrée et de sortie de données sur plaquette (210) est connectée à une diode laser (LD) (320) et à une photodiode (PD) (330), lesdites diodes étant des unités d'entrée et de sortie optique montée en externe. L'unité d'entrée et de sortie de données (210) reçoit une instruction de l'extérieur et transmet les données contrôlées vers l'extérieur. Des capteurs disposés sur le substrat se présentent sous la forme d'un analyseur d'énergie ionique (400), d'un détecteur de photons VUV (500), et d'un spectrophotomètre à émission d'ions radicaux (600).
États désignés : CN, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)