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1. (WO2003064581) PROCEDES ET COMPOSITIONS POUR LE TRAITEMENT CHIMIQUE D'UN SUBSTRAT AU MOYEN D'UNE TECHNOLOGIE DE MOUSSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/064581    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/003233
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 28.01.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.08.2003    
CIB :
B81C 1/00 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/321 (2006.01), H01L 21/3213 (2006.01)
Déposants : EKC TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 2520 Barrington Court, Hayward, CA 94545 (US)
Inventeurs : PATEL, Bakul, P.; (US).
CERNAT, Mihaela; (US).
SMALL, Robert, J.; (US)
Mandataire : BALANCIA, Victor, N.; Morgan, Lewis & Bockius LLP, 3300 Hillview Avenue, Palo Alto, CA 94304 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHODS AND COMPOSITIONS FOR CHEMICALLY TREATING A SUBSTRATE USING FOAM TECHNOLOGY
(FR) PROCEDES ET COMPOSITIONS POUR LE TRAITEMENT CHIMIQUE D'UN SUBSTRAT AU MOYEN D'UNE TECHNOLOGIE DE MOUSSE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to methods and compositions for treating a surface of a substrate by foam technology that includes at least one treatment chemical. The invention more particularly relates to the removal of undesired matter from the surface of substrates with small features, where such undesired matter may comprise organic and inorganic compounds such as particles, films from photoresist material, and traces of any other impurities such as metals deposited during planarization or etching. A method according to the present invention for treating a surface of a substrate comprises generating a foam from a liquid composition, wherein the liquid composition comprises a gas; a surfactant; and at least one component selected from the group consisting of a fluoride, a hydroxylamine, an amine and periodic acid; contacting the foam with the surface of a substrate; and, removing the undesired matter from the surface of the substrate.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des compositions destinés à traiter une surface d'un substrat au moyen d'une technologie de mousse utilisant au moins un agent chimique de traitement. Plus particulièrement, l'invention concerne l'élimination de matière indésirable à partir de la surface de substrats comportant des éléments de petite taille, cette matière indésirable pouvant comprendre des composés organiques et inorganiques, et notamment des particules, des films issus d'une matière de photorésine et des traces d'autres impuretés telles que des métaux déposés pendant une planarisation ou une gravure. Selon la présente invention, un procédé de traitement d'une surface d'un substrat consiste à produire une mousse à partir d'une composition liquide, cette composition liquide comprenant un gaz, un agent de surface et au moins un composant choisi dans le groupe constitué par un fluorure, une hydroxylamine, une amine et un acide périodique, à mettre cette mousse en contact avec la surface d'un substrat, puis à éliminer la matière indésirable à partir de la surface dudit substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)