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1. WO2003024171 - PROCEDE DE TRAITEMENT DE PHOTORESINES AU MOYEN DE LAMPES UV SANS ELECTRODE

Numéro de publication WO/2003/024171
Date de publication 20.03.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/028647
Date du dépôt international 10.09.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 04.04.2003
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H05K 3/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
KCIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
CPC
G03F 7/2004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2002with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
2004characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
H05K 3/0082
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
0082characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Déposants
  • PPG INDUSTRIES OHIO, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • CAMPBELL, Randal L.
  • JONES, James E.
Mandataires
  • MEYERS, Diane, R.
Données relatives à la priorité
09/951,58212.09.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD OF TREATING PHOTORESISTS USING ELECTRODELESS UV LAMPS
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT DE PHOTORESINES AU MOYEN DE LAMPES UV SANS ELECTRODE
Abrégé
(EN)
Methods for treating a photoresist by exposure to light from an electrodeless UV bulb are disclosed. The methods are applicable to both positive and negative photoresists. In the case of positive photoresists, use of electrodeless UV lamps significantly reduces the UV exposure time. Methods for making circuit boards and apparatus for making circuit boards are also disclosed.
(FR)
L'invention concerne des procédés de traitement d'une photorésine par exposition au rayonnement lumineux d'une lampe UV sans électrode. Ces procédés peuvent être appliqués à la fois à des photorésines positives et négatives. Dans le cas de photorésines positives, l'utilisation de lampe UV sans électrode réduit de façon importante le temps d'exposition aux rayonnements UV. L'invention concerne aussi des procédés et des appareils de fabrication de cartes de circuits imprimés.
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