Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2003023833 - UNIFORMISATION D'UN FAISCEAU DE RAYONNEMENT SPATIALEMENT COHERENT ET RESPECTIVEMENT IMPRESSION ET CONTROLE D'UN MOTIF SUR LA PIECE

Numéro de publication WO/2003/023833
Date de publication 20.03.2003
N° de la demande internationale PCT/SE2002/001607
Date du dépôt international 09.09.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 18.03.2003
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 27/0961
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0938Using specific optical elements
095Refractive optical elements
0955Lenses
0961Lens arrays
G02B 27/48
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
48Laser speckle optics; ; Speckle reduction arrangements
G02B 3/0062
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
3Simple or compound lenses
0006Arrays
0037characterized by the distribution or form of lenses
0062Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
G02B 5/1814
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1814structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
G03F 7/70025
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70025by lasers
G03F 7/70583
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70583Speckle reduction, e.g. coherence control, amplitude/wavefront splitting
Déposants
  • MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE]/[SE] (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • SANDSTRÖM, Torbjörn [SE]/[SE] (UsOnly)
  • HOLMÉR, Anna-Karin [SE]/[SE] (UsOnly)
  • WILHELMSSON, Kenneth [SE]/[SE] (UsOnly)
Inventeurs
  • SANDSTRÖM, Torbjörn
  • HOLMÉR, Anna-Karin
  • WILHELMSSON, Kenneth
Mandataires
  • FRITZON, Rolf
Données relatives à la priorité
0103006-310.09.2001SE
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) HOMOGENIZATION OF A SPATIALLY COHERENT RADIATION BEAM AND PRINTING AND INSPECTION, RESPECTIVELY, OF A PATTERN ON A WORKPIECE
(FR) UNIFORMISATION D'UN FAISCEAU DE RAYONNEMENT SPATIALEMENT COHERENT ET RESPECTIVEMENT IMPRESSION ET CONTROLE D'UN MOTIF SUR LA PIECE
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a device for homogenizing the spatial intensity distribution of a spatially coherent radiation beam (11). The device includes a grating (13) arranged in the propagation path of said spatially coherent radiation beam for diffracting said coherent beam and thus decreasing the coherence length of a diffracted radiation beam in a direction orthogonal to the propagation direction of the radiation beam relative to the width of the radiation beam in said orthogonal direction; and a radiation splitting and directing arrangement (15, 17, 19) arranged in the propagation path of said diffracted radiation beam for splitting said diffracted radiation beam into spatially separated portions and for superimposing said spatially separated portions to thereby form a radiation beam having a homogenized spatial intensity distribution.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif d'uniformisation de la distribution d'intensité spatiale d'un faisceau de rayonnement spatialement cohérent (11). Ce dispositif comprend un réseau de diffraction (13) implanté dans le trajet de propagation du faisceau de rayonnement spatialement cohérent pour sa diffraction et ainsi réduire la longueur de cohérence du faisceau de rayonnement diffracté dans une direction perpendiculaire à la direction de propagation du faisceau de rayonnement par rapport à la largeur du faisceau de rayonnement dans cette direction perpendiculaire. Ce dispositif comprend également un dispositif de division et d'orientation de rayonnement (15, 17, 19) implanté dans le trajet de propagation de ce faisceau de rayonnement diffracté pour diviser ce faisceau de rayonnement diffracté en parties spatialement séparées et pour superposer ces parties spatialement séparées pour former un faisceau de rayonnement ayant une distribution d'intensité spatialement uniformisée.
Également publié en tant que
EP2010008885
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international