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Paramétrages

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1. WO2003009017 - PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT OPTIQUE

Numéro de publication WO/2003/009017
Date de publication 30.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/007278
Date du dépôt international 17.07.2002
CIB
C30B 33/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
30CROISSANCE DES CRISTAUX
BCROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
33Post-traitement des monocristaux ou des matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée
G02B 1/02 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
02faits de cristaux, p.ex. sel gemme, semi-conducteurs
CPC
C30B 29/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
30CRYSTAL GROWTH
BSINGLE-CRYSTAL-GROWTH
29Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
10Inorganic compounds or compositions
12Halides
C30B 33/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
30CRYSTAL GROWTH
BSINGLE-CRYSTAL-GROWTH
33After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
G02B 1/02
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
02made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
Y10S 117/902
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
117Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
901Levitation, reduced gravity, microgravity, space
902Specified orientation, shape, crystallography, or size of seed or substrate
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
  • HIRAIWA, Hiroyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • SAKUMA, Shigeru [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • AZUMI, Minako [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • MOCHIDA, Masaaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • HIRAIWA, Hiroyuki; JP
  • SAKUMA, Shigeru; JP
  • AZUMI, Minako; JP
  • MOCHIDA, Masaaki; JP
Mandataires
  • HASEGAWA, Yoshiki ; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Okura-honkan 6-12, Ginza 2-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
Données relatives à la priorité
2001-21727517.07.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MEMBER
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT OPTIQUE
Abrégé
(EN)
A method for producing an optical member comprising a growing step of growing an ingot of a fluoride crystal, a crystal plane direction determining step of determining two or more directions of crystal plane of the ingot, a slicing step of slicing the ingot in one of the directions of crystal plane determined at the crystal plane direction determining step into an optical blank, and a machining step of subjecting the optical blank to a predetermined machining to produce an optical member.
(FR)
L'invention concerne un procédé permettant de fabriquer un élément optique qui comporte un certain nombre d'étapes, à savoir développer un lingot de cristal de fluorure, déterminer au moins deux directions du plan cristallin du lingot, couper le lingot dans l'une des directions du plan cristallin déterminées à l'étape précédente en ébauche optique, et à soumettre l'ébauche optique à un usinage prédéterminé pour produire un élément optique.
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