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Paramétrages

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1. WO2003007335 - NACELLE PORTE-TRANCHES VERTICALE MOULEE EN UNE SEULE PIECE COMPORTANT UN BATI EN Y

Numéro de publication WO/2003/007335
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/020509
Date du dépôt international 27.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 31.01.2003
CIB
H01L 21/673 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
673utilisant des supports spécialement adaptés
CPC
H01L 21/67309
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
673using specially adapted carriers ; or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
67303Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
67309characterized by the substrate support
Y10S 206/832
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
206Special receptacle or package
832Semiconductor wafer boat
Y10S 414/135
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
414Material or article handling
135Associated with semiconductor wafer handling
Déposants
  • SAINT-GOBAIN CERAMICS AND PLASTICS, INC. [US/US]; 1 New Bond Street Worcester, MA 01615, US
Inventeurs
  • BUCKLEY, Richard, F.; US
Mandataires
  • PORTER, Mary, E. ; Saint-Gobain Corporation 1 New Bond Street Box Number 15138 Worcester, MA 01615-0138, US
Données relatives à la priorité
09/904,14912.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SINGLE CAST VERTICAL WAFER BOAT WITH A Y SHAPED COLUMN RACK
(FR) NACELLE PORTE-TRANCHES VERTICALE MOULEE EN UNE SEULE PIECE COMPORTANT UN BATI EN Y
Abrégé
(EN)
A vertical ceramic wafer boat (20) for supporting a silicon wafer (39) having predetermined radius (R). The wafer boat (20) comprises a base portion (22) and a column rack (24), which extends generally vertically upwards from the base portion (22). The column rack (24) includes a pair of vertical column rack supports (40) extending generally vertically upwards from the base portion (22). The column rack (24) also includes a plurality of wafer supports (42) having a generally Y shaped cross section. The wafer supports (42) extend substantially horizontally from the column rack supports (40) to define a plurality of slots within the column rack (24) sized to receive the wafer (39).
(FR)
L'invention concerne une nacelle céramique verticale propre à supporter une tranche de silicium ayant un rayon R prédéterminé. Cette nacelle comporte une partie de base et un bâti qui se dresse de manière sensiblement verticale à partir de la partie de base. Le bâti comporte une paire de supports verticaux qui se dressent de manière sensiblement verticale à partir de la partie de base. Le bâti comporte également une pluralité de supports de tranches dont la section est sensiblement en forme de Y. Ces supports de tranches s'étendent de manière sensiblement horizontale à partir des supports du bâti afin de définir dans le bâti une pluralité de fentes dimensionnées pour recevoir les tranches.
Également publié en tant que
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