Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

1. WO2003007330 - PROCEDE DE MESURE DE L'ELECTRISATION D'UN ECHANTILLON ET DISPOSITIF A FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES

Numéro de publication WO/2003/007330
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/006994
Date du dépôt international 10.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 30.08.2002
CIB
H01J 37/21 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
21Moyens pour la mise au point
H01J 37/28 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28avec faisceaux de balayage
CPC
G01N 23/2251
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
22by measuring secondary emission from the material
225using electron or ion
2251using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
H01J 2237/0041
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
004Charge control of objects or beams
0041Neutralising arrangements
H01J 2237/216
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
21Focus adjustment
216Automatic focusing methods
H01J 2237/244
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
244Detection characterized by the detecting means
H01J 2237/24564
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
245Detection characterised by the variable being measured
24564Measurements of electric or magnetic variables, e.g. voltage, current, frequency
H01J 2237/24592
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
245Detection characterised by the variable being measured
24592Inspection and quality control of devices
Déposants
  • HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-8010, JP (AllExceptUS)
  • EZUMI, Makoto [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • OSE, Yoichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • IKEGAMI, Akira [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • TODOKORO, Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • ISHIJIMA, Tatsuaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • SATO, Takahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • FUKAYA, Ritsuo [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • ASAO, Kazunari [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • EZUMI, Makoto; JP
  • OSE, Yoichi; JP
  • IKEGAMI, Akira; JP
  • TODOKORO, Hideo; JP
  • ISHIJIMA, Tatsuaki; JP
  • SATO, Takahiro; JP
  • FUKAYA, Ritsuo; JP
  • ASAO, Kazunari; JP
Mandataires
  • SAKUTA, Yasuo; c/o Hitachi, Ltd. 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8220, JP
Données relatives à la priorité
2001-21153212.07.2001JP
2001-26264131.08.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SAMPLE ELECTRIFICATION MEASUREMENT METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
(FR) PROCEDE DE MESURE DE L'ELECTRISATION D'UN ECHANTILLON ET DISPOSITIF A FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES
Abrégé
(EN)
A charged particle beam irradiation method preferable for reducing the out−of−focus of a charged particle beam apparatus caused by sample electrification, the variation in magnification, and the error in measured length value, and a charged particle beam apparatus are disclosed. This invention proposes a technique for measuring the potential distribution over a sample with an electrostatic potentiometer while a charged particle beam is passing through a sample loaded by a loading mechanism. Another proposal is a technique for measuring the local electrification of a predetermined portion on the sample to measure a large−area electrification amount by separating the large−area electrification amount from the electrification amount. A further proposal is a technique for measuring the electrification amount of a predetermined portion under at least two charged−particle optical conditions and a variation in dimensional values with a charged particle beam with a variation in electrification amount of the predetermined portion, and for correcting the measured length value or the magnification on the basis of the variation in dimensional values.
(FR)
L'invention concerne un procédé d'irradiation avec un faisceau de particules chargées, permettant de réduire les erreurs de mise au point d'un dispositif à faisceau de particules chargées due à l'électrisation de l'échantillon, les variations du grossissement et les erreurs de la longueur mesurée, ainsi qu'un dispositif à faisceau de particules chargées. L'invention concerne un procédé permettant de mesurer la distribution du potentiel dans un échantillon au moyen d'un potentiomètre électrostatique pendant qu'un faisceau de particules chargée passe à travers un échantillon positionné par un mécanisme de chargement. L'invention concerne également un procédé permettant de mesurer l'électrisation locale d'une partie prédéterminée d'un échantillon afin de mesurer le niveau d'électrisation sur une grande surface en séparant cette valeur de la valeur mesurée. L'invention concerne en outre un procédé permettant de mesurer le niveau d'électrisation d'une zone prédéterminée dans au moins deux conditions d'irradiation avec des particules chargées, ainsi que la variation des valeurs dimensionnelles obtenues avec un faisceau de particules chargées, et la variation des valeurs d'électrisation dans la zone prédéterminée, et de corriger la valeur de la longueur mesurée ou du grossissement en fonction de cette variation des valeurs dimensionnelles.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international