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Paramétrages

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1. WO2003007075 - PROCEDE ET APPAREIL DE TRANSFERT PAR DIFFRACTION D'UN MASQUE DE RESEAU

Numéro de publication WO/2003/007075
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/IB2002/003099
Date du dépôt international 21.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 12.12.2002
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/7035
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
7035Proximity or contact printer
Déposants
  • IBSEN PHOTONICS A/S [DK/DK]; Ryttermarken 15-21 DK-3520 Farum, DK
  • HANSEN, Poul-Erik [DK/DK]; DK (UsOnly)
Inventeurs
  • HANSEN, Poul-Erik; DK
  • IBSEN, Per, Eld; DK
Mandataires
  • SPERLING, Rüdiger; C/O Staeger & Sperling Müllerstrasse 3 D-80469 München, DE
Données relatives à la priorité
09/867,03629.05.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR DIFFRACTIVE TRANSFER OF A MASK GRATING
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE TRANSFERT PAR DIFFRACTION D'UN MASQUE DE RESEAU
Abrégé
(EN)
An improved technique of exposing a photoresist through a grating mask reduces the occurrence of overlapping gratings and also avoids distortions in the exposed mask when there is a gap between the contact mask and the photoresist layer. The technique is particularly well suited to forming Bragg gratings on semiconductors and other materials that are used for wavelength selection in, for example, optical communications applications. The technique employs a phase grating held close to, but out of contact with, the photoresist layer. Amongst the advantages provided by the present invention is that the requirements of the permissible thickness of the photoresist layer suitable for writing high visibility gratings are relaxed, thus reducing the complexity and costs for processing the substrate.
(FR)
L'invention porte sur une technique améliorée d'exposition d'une photorésine au moyen d'un masque de réseau qui permet de réduire l'apparition de réseaux qui se chevauchent et d'éviter des distorsions dans le masque exposé lorsqu'il existe un espace entre le masque de contact et la couche de photorésine. Cette technique convient tout particulièrement bien à la formation de réseaux de Bragg sur des semiconducteurs et autres matériaux utilisés pour sélectionner des longueurs d'onde dans, par exemple, des applications à communication optique. Cette technique est fondée sur l'utilisation d'un réseau de phase qui est maintenu près, mais sans contact, de la couche de photorésine. Cette invention offre plusieurs avantages : les exigences d'épaisseur autorisée de la couche de photorésine qui convient à l'écriture de réseaux à haute visibilité sont plus souples, ce qui permet de réduire la complexité et les coûts du traitement du substrat.
Également publié en tant que
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