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Paramétrages

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1. WO2003006933 - SYSTEME ET PROCEDE DE DETECTION DES OCCLUSIONS DANS UN DISPOSITIF DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS

Numéro de publication WO/2003/006933
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/021981
Date du dépôt international 10.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 10.02.2003
CIB
C23C 16/44 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44caractérisé par le procédé de revêtement
G01F 1/68 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
FMESURE DES VOLUMES, DES DÉBITS VOLUMÉTRIQUES, DES DÉBITS MASSIQUES OU DU NIVEAU DES LIQUIDES; COMPTAGE VOLUMÉTRIQUE
1Mesure du débit volumétrique ou du débit massique d'un fluide ou d'un matériau solide fluent, dans laquelle le fluide passe à travers le compteur par un écoulement continu
68en utilisant des effets thermiques
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
C23C 16/4408
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
4408by purging residual gases from the reaction chamber or gas lines
G01F 1/68
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
1Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through the meter in a continuous flow
68by using thermal effects
H01L 21/67253
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
Déposants
  • MITCHELL, Bradley, D. [US/US]; US
Inventeurs
  • MITCHELL, Bradley, D.; US
Mandataires
  • DAVIS, Gilmer, J.; 130 E. San Fernando, # 524 San José, CA 95112, US
Données relatives à la priorité
09/903,11910.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING OCCLUSIONS IN A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE DETECTION DES OCCLUSIONS DANS UN DISPOSITIF DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé
(EN)
A blockage detector for a system that produces integrated circuit structures on semiconductor wafers via a semiconductor manufacturing system (10) is described. The system has a chamber for placing the semiconductor wafers, and the chamber (12) is environmentally coupled to a gas source through a gaseous flow path. The detector has a flow detector (19), interposed in the gaseous flow path, that determines a flow rate of gas flowing from the gas supply (14) towards the reaction chamber and eventually the outlet or outtake (16). A flow comparator, communicatively coupled to the flow detector, compares the detected flow rate of the gas to a baseline flow rate of gas. A decrease in the flow rate of the gas is indicative of an occlusion build-up and/or blockage in the gaseous flow path, as would also be indicated by monitoring the output from the second occlusion detector in Figure 1.
(FR)
La présente invention concerne un détecteur d'obstruction destiné à un système qui produit des structures à circuits intégrés sur des plaquettes à semi-conducteurs. Le système comporte une chambre recevant les plaquettes à semi-conducteurs, l'atmosphère de cette chambre étant desservie par une source de gaz via un circuit de distribution de gaz. Le détecteur comporte, monté dans le circuit de distribution de gaz, un détecteur de flux qui détermine le débit du gaz depuis l'alimentation en gaz. Un comparateur de flux communiquant avec le détecteur de flux, compare à un débit de référence le débit détecté. Toute diminution de ce débit témoigne d'une obstruction affectant le circuit de distribution de gaz.
Également publié en tant que
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