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Paramétrages

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1. WO2003006715 - PROCEDES ET APPAREIL DE CONTROLE DE LA QUANTITE D'UN CONSTITUANT CHIMIQUE DANS UN BAIN ELECTROCHIMIQUE

Numéro de publication WO/2003/006715
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/021723
Date du dépôt international 08.07.2002
CIB
C25D 21/14 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
21Procédés pour l'entretien ou la conduite des cellules pour revêtement électrolytique
12Commande ou régulation
14Addition commandée des composants de l'électrolyte
G05D 11/13 2006.01
GPHYSIQUE
05COMMANDE; RÉGULATION
DSYSTÈMES DE COMMANDE OU DE RÉGULATION DES VARIABLES NON ÉLECTRIQUES
11Commande du rapport des débits
02Commande du rapport des débits de plusieurs matériaux fluides ou fluents
13caractérisée par l'usage de moyens électriques
CPC
C25D 21/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING
21Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
12Process control or regulation
14Controlled addition of electrolyte components
G05D 11/133
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
11Ratio control
02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
13characterised by the use of electric means
131by measuring the values related to the quantity of the individual components
133with discontinuous action
Y10T 436/11
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
436Chemistry: analytical and immunological testing
11Automated chemical analysis
Déposants
  • SEMITOOL, INC. [US/US]; 655 West Reserve Drive Kalispell, MT 59901, US (AllExceptUS)
  • FULTON, DAKIN [--/US]; US (UsOnly)
  • RITZDORF, Thomas, L. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • FULTON, DAKIN; US
  • RITZDORF, Thomas, L.; US
Mandataires
  • RICHMAN, Howard, R.; Edell, Shapiro & Finnan, LLC 1901 Research Boulevard Suite 400 Rockville, MD 20850-3164, US
Données relatives à la priorité
09/683,59723.01.2002US
60/303,95009.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN AMOUNT OF A CHEMICAL CONSTITUENT OF AN ELECTROCHEMICAL BATH
(FR) PROCEDES ET APPAREIL DE CONTROLE DE LA QUANTITE D'UN CONSTITUANT CHIMIQUE DANS UN BAIN ELECTROCHIMIQUE
Abrégé
(EN)
An automated chemical management system (100) for managing the chemicalcontent of an electrochemical bath used to deposit a material on the surface of a microelectronic workpiece is set forth. The automated chemical management system includes a dosing system that is adapted to dose an amount of one or more chemicals to replenish a given electrochemical bath constituent in accordance with a predetermined dosing equation. The chemical management system also includes an analytical measurement system (122) that is adapted to provide a measurement result indicative of the amount of the given constituent in the electrochemical bath at predetermined time intervals. The chemical management system uses the measurements results to modify the dosing equation of the dosing system. In this manner, the replenishment operations executed by the chemical management system are effetively refined over time thereby providing more accurate control of the amount of the target contituent in the electrochemical bath.
(FR)
La présente invention concerne un système de gestion automatisé (100) des constituants chimiques qui gère la teneur en constituants chimiques d'un bain électrochimique utilisé pour déposer une matière à la surface d'un élément microélectronique. Le système de gestion automatisé des constituants chimiques comprend un système de dosage qui est adapté pour doser une quantité d'un ou plusieurs produits chimiques afin de régénérer un constituant de bain électrochimique donné conformément à une équation de dosage prédéterminée. Le système de gestion des constituants chimiques comprend également un système de mesure analytique (122) qui est prévu pour produire un résultat de la mesure qui indique la quantité du constituant donné dans le bain électrochimique à des intervalles de temps prédéterminés. Le système de gestion des constituants chimiques utilise les résultats des mesures pour modifier l'équation de dosage du système de dosage. De cette manière, les opérations de régénération exécutées par le système de gestion des constituants chimiques sont efficacement perfectionnées et affinées au fil du temps, ce qui permet de contrôler avec une plus grande précision la quantité du constituant cible dans le bain électrochimique.
Également publié en tant que
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