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Paramétrages

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1. WO2003006705 - POSTE TAMPON DE FABRICATION DE TRANCHES EN SEMICONDUCTEUR

Numéro de publication WO/2003/006705
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/022160
Date du dépôt international 12.07.2002
CIB
H01L 21/687 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
687en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
CPC
H01L 21/68728
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
687using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
68714the wafers being placed on a susceptor, stage or support
68728characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
H01L 21/68735
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
687using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
68714the wafers being placed on a susceptor, stage or support
68735characterised by edge profile or support profile
Déposants
  • NEWPORT CORPORATION [US/US]; 1791 Deere Avenue Irvine, CA 92606, US (AllExceptUS)
  • BACCHI, Paul [US/US]; US (UsOnly)
  • FILIPSKI, Paul, S. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • BACCHI, Paul; US
  • FILIPSKI, Paul, S.; US
Mandataires
  • ANGELLO, Paul, S.; Stoel Rives LLP 900 SW Fifth Avenue, Suite 2600 Portland, OR 97204-1268, US
Données relatives à la priorité
60/305,42013.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) WAFER FABRICATION BUFFER STATION
(FR) POSTE TAMPON DE FABRICATION DE TRANCHES EN SEMICONDUCTEUR
Abrégé
(EN)
A buffer station (10) includes a base (14) and multiple posts (27) that extend from a base (14). A moveable arm (22) is coupled to each post (27) and moves between specimen (16) supporting and releasing positions. The buffer station (10) may further include supporting fingers (18) extending from the base (14) to support a specimen (16). Alternatively, the buffer station may include movable lower arms that each couple to a corresponding post. The movable lower arms move from specimen supporting and releasing positions. The movable lower arms may also couple to their own individual posts. Movement of the lower arms is independent from that of the upper arms. The buffer station supports specimens at two different elevations.
(FR)
Un poste tampon comporte une base et des colonnes multiples qui s'étendent depuis une base. Un bras mobile est accouplé à chaque colonne et se déplace entre des positions de soutien et de dégagement de spécimens. La station tampon peut également comprendre des doigts de support s'étendant depuis la base pour soutenir un spécimen. Dans un autre mode de réalisation, la station de base peut comprendre des bras inférieurs mobiles qui s'accouplent chacun à une colonne correspondante. Les bras inférieurs mobiles se déplacent entre des positions de soutien et de dégagement de spécimens. Les bras mobiles inférieurs peuvent également s'accoupler à leurs propres colonnes individuelles. Le mouvement des bras inférieurs est indépendant de celui des bras supérieurs. La station tampon soutient des spécimens à des hauteurs différentes, si bien que la productivité de traitement des spécimens est accrue.
Également publié en tant que
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