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Paramétrages

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1. WO2003006704 - PROCEDE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UN SYSTEME MULTICOUCHE D'ACTION OPTIQUE

Numéro de publication WO/2003/006704
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/EP2002/007141
Date du dépôt international 28.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 21.12.2002
CIB
C23C 14/50 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
50Porte-substrat
C23C 14/56 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
56Appareillage spécialement adapté au revêtement en continu; Dispositifs pour maintenir le vide, p.ex. fermeture étanche
G02B 1/11 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
11Revêtements antiréfléchissants
CPC
C23C 14/505
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
50Substrate holders
505for rotation of the substrates
C23C 14/564
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
G02B 1/11
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
Déposants
  • SATIS VACUUM INDUSTRIES VERTRIEBS-AG [CH/CH]; Neuhofstrasse 12 CH-6340 Baar, CH (AllExceptUS)
  • BREME, Frank [DE/CH]; CH (UsOnly)
Inventeurs
  • BREME, Frank; CH
Mandataires
  • SCHAAD BALASS MENZI & PARTNER AG; Dufourstrasse 101 / Postfach CH-8034 Zürich, CH
Données relatives à la priorité
01810698.913.07.2001EP
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINES OPTISCH WIRKSAMEN SCHICHTSYSTEMS
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING AN OPTICALLY EFFECTIVE SYSTEM OF LAYERS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UN SYSTEME MULTICOUCHE D'ACTION OPTIQUE
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines optisch wirksamen Schichtsystems (3) auf einem Substrat (1) mit einer ersten Seite (1a) und einer zweiten Seite (1b) durch plasmaunterstütztes Zerstäuben eines Festkörpertargets (Sputtern). Zur Verminderung der Rückseitenbeschädigung wird vor dem Abscheiden des Schichtsystems (3) auf der Vorderseite (1a) des Substrats auf dessen Rückseite (1b) eine Schutzschicht (2) aufgetragen oder ein Substrat mit einer bereits aufgetragenen Schutzschicht (2) verwendet.
(EN)
The invention relates to a method and a device for producing an optically effective system (3) of layers on a substrate (1) comprising a first side (1a) and a second side (1b), by the plasma-supported atomisation of a solid body target (sputtering). To reduce the damage to the rear side, prior to the deposition of the system (3) of layers on the front side (1a) of the substrate, a protective layer (2) is applied to the rear side (1b) of said substrate, or a substrate with a protective layer (2) that has already been applied is used.
(FR)
L'invention concerne un procédé et un dispositif de production d'un système multicouche (3) d'action optique sur un substrat (1) par pulvérisation assistée par plasma d'une cible solide (pulvérisation cathodique). Ce substrat a une première face (1a) et une deuxième face (1b). Pour réduire l'endommagement de la face arrière, on applique, avant le dépôt du système multicouche (3), une couche protectrice (2) au dos (1b) de la face avant (1a) du substrat ou bien on utilise un substrat déjà doté d'une couche protectrice (2).
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