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Paramétrages

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1. WO2003006599 - COMPOSITIONS CONTENANT DES SELS DE FLUORURE SANS AMMONIAC DESTINEES AU NETTOYAGE DE COMPOSANTS MICROELECTRONIQUES

Numéro de publication WO/2003/006599
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/021436
Date du dépôt international 08.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 16.01.2003
CIB
C11D 3/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
C11D 3/20 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
20contenant de l'oxygène
C11D 3/28 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
26contenant de l'azote
28Composés hétérocycliques contenant de l'azote dans le cycle
C11D 3/30 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
26contenant de l'azote
30Amines; Amines substituées
C11D 3/32 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
26contenant de l'azote
32Amides; Amides substituées
C11D 3/43 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
43Solvants
CPC
C11D 1/62
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
1Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
38Cationic compounds
62Quaternary ammonium compounds
C11D 11/0047
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
11Special methods for preparing compositions containing mixtures of detergents
0005Special cleaning and washing methods
0011characterised by the objects to be cleaned
0023"Hard" surfaces
0047Electronic devices, e.g. PCBs, semiconductors
C11D 3/0073
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
3Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
0005Other compounding ingredients characterised by their effect
0073Anticorrosion compositions
C11D 3/046
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
3Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
02Inorganic compounds ; ; Elemental compounds
04Water-soluble compounds
046Salts
C11D 3/2068
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
3Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
16Organic compounds
20containing oxygen
2068Ethers
C11D 3/28
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
3Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
16Organic compounds
26containing nitrogen
28Heterocyclic compounds containing nitrogen in the ring
Déposants
  • MALLINCKRODT BAKER INC. [US/US]; 675 McDonnell Boulevard P.O. Box 5840 St. Louis, MO 63134, US (AllExceptUS)
  • HSU, Chin-Pin, Sherman [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • HSU, Chin-Pin, Sherman; US
Mandataires
  • BOONE, Jeffrey, S.; 675 McDonnell Boulevard P.O. Box 5840 St. Louis, MO 63134, US
Données relatives à la priorité
60/304,03309.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MICROELECTRONIC CLEANING COMPOSITIONS CONTAINING AMMONIA-FREE FLUORIDE SALTS
(FR) COMPOSITIONS CONTENANT DES SELS DE FLUORURE SANS AMMONIAC DESTINEES AU NETTOYAGE DE COMPOSANTS MICROELECTRONIQUES
Abrégé
(EN)
Ammonia-free, HF-free cleaning compositions for cleaning photoresist and plasma ash residues from microelectronic substrates, and particularly to such cleaning compositions useful with and having improved compatibility with microelectronic substrates characterized by sensitive porous and low-k to high-k dielectrics and copper metallization. The cleaning composition contain one or more non-ammonium producing, non-HF producing fluoride salt (non ammonium, quaternary ammonium fluoride salt) in a suitable solvent matrix.
(FR)
La présente invention se rapporte à des compositions de nettoyage ne contenant ni fluorure d'hydrogène ni ammoniac et permettant de nettoyer des substrats microélectroniques et d'en retirer de la photorésine ainsi que des cendres laissées par une gravure au plasma. Cette invention se rapporte particulièrement à de telles compositions de nettoyage qui sont utiles avec des substrats microélectroniques pour lesquels elles présentent une compatibilité améliorée, lesdits substrats étant caractérisés par des diélectriques poreux sensibles, à constante $g(k) faible à élevée, ainsi que par une métallisation au cuivre. La composition de nettoyage contient un ou plusieurs sels de fluorure ne produisant ni fluorure d'hydrogène ni ammonium (sel de fluorure d'ammonium quaternaire et non sel d'ammonium) dans une matrice solvant adaptée.
Également publié en tant que
IN43/CHENP/2004
NO20040070
RSP-10/04
YUP-10/04
ZA200400065
Autres publications associées
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