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Paramétrages

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1. WO2003005125 - PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION FAISANT APPEL A UNE ACCELERATION DE CROISSANCE DE PARTICULE PAR LE BIAIS D'UN ADDITIF POLYMERE

Numéro de publication WO/2003/005125
Date de publication 16.01.2003
N° de la demande internationale PCT/EP2002/007428
Date du dépôt international 04.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 17.01.2003
CIB
G03F 7/023 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
022Quinonediazides
023Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
CPC
G03F 7/0233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
0233characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
Déposants
  • KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH [DE/DE]; An der Bahn 80 37520 Osterode/Harz, DE
Inventeurs
  • JAREK, Mathias; DE
Mandataires
  • Vossius & Partner; Siebertstrasse 4 81675 Munchen, DE
Données relatives à la priorité
09/899,74105.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR THE PRODUCTION OF PRINTING PLATE USING PARTICULE GROWING ACCELERATION BY AN ADDITIVE POLYMER
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION FAISANT APPEL A UNE ACCELERATION DE CROISSANCE DE PARTICULE PAR LE BIAIS D'UN ADDITIF POLYMERE
Abrégé
(EN)
A coating solution useful in the preparation of printing plate precursors comprises: (a) a radiation sensitive composition C comprising a phenolic resin; (b) at least one thermoplastic polymer P which has a solubility in aqueous alkaline media ranging from sparingly soluble to insoluble; (c) a first solvent component A which is capable of solubilizing both composition C and thermoplastic polymer P; (d) a second solvent component B having a volatility less than component A, wherein component B is capable of volatilizing composition C but not thermoplastic polymer P, and composition C and thermoplastic P are homogeneously dissolved in a mixture of components A and B; and (e) at least one further polymer AP having a higher molecular weight than the phenolic resin of composition C, wherein polymer AP is miscible with the phenolic resin and immiscible with thermoplastic polymer P, The coating provides a radiation-sensitive layer for the substrate, and the coating contains homogeneously distributed thermoplastic polymer particles.
(FR)
L'invention concerne une solution de revêtement utile dans la préparation de précurseurs de plaque d'impression comprenant: (a) une composition C sensible aux rayonnements comprenant une résine phénolique; (b) au moins un polymère thermoplastique P présentant une solubilité en milieu alcalin aqueux allant de modérément soluble à insoluble; (c) un premier composant solvant A, permettant de solubiliser à la fois la composition C et le polymère thermoplastique P; (d) un second composant solvant B présentant une volatilité inférieure à celle du composant A, un composant B permettant de volatiliser la composition C, mais pas le polymère thermoplastique P, et la composition C et le polymère thermoplastique P étant dissous de manière homogène dans un mélange du composant A et du composant B; et (e) au moins un autre polymère AP, présentant un poids moléculaire supérieur à celui de la résine phénolique de la composition C, le polymère AP étant miscible avec la résine phénolique, et non miscible avec le polymère thermoplastique P. Le revêtement fournit une couche sensible aux rayonnements pour le substrat, et le revêtement contient des particules polymères thermoplastiques distribuées de manière homogène.
Également publié en tant que
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