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Paramétrages

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1. WO2003005067 - PROCEDE ET APPAREIL CONÇUS POUR REDUIRE LES EFFETS DE FRONTS D'ONDES CISAILLES SUR DES MESURES DE PHASES INTERFEROMETRIQUES

Numéro de publication WO/2003/005067
Date de publication 16.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/020560
Date du dépôt international 27.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 03.02.2003
CIB
G01B 9/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
BMESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
9Instruments tels que spécifiés dans les sous-groupes et caractérisés par l'utilisation de moyens de mesure optiques
02Interféromètres
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G01B 2290/70
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
2290Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
70Using polarization in the interferometer
G01B 9/02003
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
9Instruments as specified in the subgroups and characterised by the use of optical measuring means
02Interferometers ; for determining dimensional properties of, or relations between, measurement objects
02001characterised by manipulating or generating specific radiation properties
02002Frequency variation
02003by using beat frequencies generated by mixing of two or more frequencies
G01B 9/02038
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
9Instruments as specified in the subgroups and characterised by the use of optical measuring means
02Interferometers ; for determining dimensional properties of, or relations between, measurement objects
02034characterised by particularly shaped beams or wavefronts
02038Shaping the wavefront, e.g. generating a spherical wavefront
G01B 9/02058
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
9Instruments as specified in the subgroups and characterised by the use of optical measuring means
02Interferometers ; for determining dimensional properties of, or relations between, measurement objects
02055characterised by error reduction techniques
02056Passive error reduction, i.e. not varying during measurement, e.g. by constructional details of optics
02058by particular optical compensation or alignment elements, e.g. dispersion compensation
G03F 7/70775
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70775Position control
Déposants
  • ZYGO CORPORATION [US/US]; 21 Laurel Brook Road Middlefield, CT 06455-0448, US (AllExceptUS)
  • HILL, Henry, A. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • HILL, Henry, A.; US
Mandataires
  • FEIGENBAUM, David, L.; Fish & Richardson, P.C. 225 Franklin Street Boston, MA 02110-2804, US
Données relatives à la priorité
10/179,55624.06.2002US
60/303,54506.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS TO REDUCE EFFECTS OF SHEARED WAVEFRONTS ON INTERFEROMETRIC PHASE MEASUREMENTS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL CONÇUS POUR REDUIRE LES EFFETS DE FRONTS D'ONDES CISAILLES SUR DES MESURES DE PHASES INTERFEROMETRIQUES
Abrégé
(EN)
The present invention features an anamorphic apparatus (200) that alters a wavefront of a beam having a wavefront error to form a beam comprising a region having a greatly reduced wavefront error. A beam stop (240) may be used with the anamorphic apparatus to define a portion of the region having a greatly reduced wavefront error that is subsequently detected or launched into a fiber optic. Furthermore, the anamorphic apparatus (200) can be incorporated into an interferometry system to reduce errors associated with wavefront error and beam shear, i.e., non-cyclic non-linearities.
(FR)
L'invention concerne un appareil anamorphique qui modifie un front d'onde d'un faisceau présentant une erreur de front d'onde de façon à former un faisceau comprenant une zone ayant une erreur de front d'onde considérablement réduite. On peut utiliser un arrêt de faisceau avec l'appareil anamorphique pour définir une partie de la zone présentant une erreur de front d'onde considérablement réduite, qui est par la suite détectée ou lancée dans une fibre optique. En outre, l'appareil anamorphique peut être incorporé dans un système interférométrique afin de réduire les erreurs associées à l'erreur de front d'onde et au cisaillement de faisceau, c'est-à-dire des non linéarités non-cycliques.
Également publié en tant que
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