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Paramétrages

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1. WO2003003531 - UNITE DE RETRECISSEMENT DE RAIE MUNIE D'UNE FIXATION DE RESEAU DE DIFFRACTION EN FLEXION

Numéro de publication WO/2003/003531
Date de publication 09.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/017999
Date du dépôt international 05.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 21.01.2003
CIB
H01S 3/034 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
02Détails de structure
03des tubes laser à décharge dans le gaz
034Dispositifs optiques placés à l'intérieur du tube ou en faisant partie, p.ex. fenêtres, miroirs
H01S 3/08 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
05Structure ou forme de résonateurs; Accommodation de milieu actif à l'intérieur de ces résonateurs; Forme du milieu actif
08Structure ou forme des résonateurs optiques ou de leurs composants
H01S 3/1055 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
10Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
105par commande de la position relative ou des propriétés réfléchissantes des réflecteurs de la cavité
1055un des réflecteurs étant constitué par un réseau de diffraction
H01S 3/225 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
14caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif
22à gaz
223le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plus d'un atome
225comprenant un excimer ou un exciplex
CPC
G03F 7/70025
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70025by lasers
G03F 7/70575
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70575Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength, matching of optical components to wavelength
H01S 3/02
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
H01S 3/03
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
03of gas laser discharge tubes
H01S 3/034
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
03of gas laser discharge tubes
034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
H01S 3/036
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
03of gas laser discharge tubes
036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Déposants
  • CYMER, INC. [US/US]; Legal Department-M/S 4-2C 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US (AllExceptUS)
  • TITUS, Clay, C. [US/US]; US (UsOnly)
  • HULBURD, William, G. [US/US]; US (UsOnly)
  • CYBULSKI, Raymond, F. [US/US]; US (UsOnly)
  • ALGOTS, John, M. [US/US]; US (UsOnly)
  • LYSIK, Michael, S. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • TITUS, Clay, C.; US
  • HULBURD, William, G.; US
  • CYBULSKI, Raymond, F.; US
  • ALGOTS, John, M.; US
  • LYSIK, Michael, S.; US
Mandataires
  • ROSS, John, R.; Cymer, Inc. Legal Department - M/S 4-2C 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US
Données relatives à la priorité
09/895,66429.06.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LINE NARROWING UNIT WITH FLEXURAL GRATING MOUNT
(FR) UNITE DE RETRECISSEMENT DE RAIE MUNIE D'UNE FIXATION DE RESEAU DE DIFFRACTION EN FLEXION
Abrégé
(EN)
A grating based line narrowing device for line narrowing lasers producing high energy laser beams. A flexure grating mount is provided which virtually eliminates stress on the grating caused by differential thermal expansion between the grating and the housing structure. The grating which is comprised of a very thin aluminum surface on a thick ultra low expansion glass substrate is attached to an aluminum housing structure using a flexure grating mount. At least one flexure joint is provided in the grating mount which permits thermal expansion and contraction of the substrate. In some embodiments the mount comprises a metal plate and the flexure joint is a H-Flex joint (124) with four legs (126) which is machined into the metal plate. In another embodiment two H-Flex joints are provided. In other embodiments, the flexure joint is a dovetail joint permitting one end of the mount to slip relative to the other.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de rétrécissement de raie basé sur un réseau de diffraction, destiné à des lasers de rétrécissement de raie produisant des faisceaux laser haute énergie. Une fixation de réseau de diffraction en flexion est obtenue, qui élimine virtuellement la tension sur le réseau causée par une dilatation thermique différencielle entre le réseau et la structure d'enveloppe. Le réseau de diffraction, qui est constitué d'une surface en aluminium très mince disposée sur un substrat de verre épais à très faible pouvoir de dilatation, est fixé à une structure d'enveloppe en aluminium au moyen d'une fixation de réseau en flexion. Au moins un raccord souple est installé dans la fixation de réseau pour permettre la dilatation et la contraction thermique du substrat. Dans certaines formes de réalisation, la fixation comprend une plaque métallique, et le raccord souple est un connecteur flexible en H (124) muni de quatre pattes (126), qui est usiné dans la plaque métallique. Dans une autre forme de réalisation, l'objet de l'invention comprend deux connecteurs flexibles en H. Dans d'autres modes de réalisation, le raccord souple est un assemblage à queue simple qui permet de faire coulisser une extrémité de la fixation relativement à l'autre extrémité.
Également publié en tant que
RU2004110720
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