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1. WO2003002997 - PROCEDE, DISPOSITIF ET SYSTEME D'ANALYSE D'ECHANTILLON DE DENSITE IRREGULIERE

Numéro de publication WO/2003/002997
Date de publication 09.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/006013
Date du dépôt international 17.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 24.01.2003
CIB
G01N 23/20 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules), p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes G01N3/-G01N17/201
20en utilisant la diffraction de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher la structure cristalline; en utilisant la diffusion de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher les matériaux non cristallins; en utilisant la réflexion de la radiation par les matériaux
G01N 23/201 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules), p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes G01N3/-G01N17/201
20en utilisant la diffraction de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher la structure cristalline; en utilisant la diffusion de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher les matériaux non cristallins; en utilisant la réflexion de la radiation par les matériaux
201en mesurant la diffusion sous un petit angle, p.ex. la diffusion des rayons X sous un petit angle
G01N 23/203 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules), p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes G01N3/-G01N17/201
20en utilisant la diffraction de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher la structure cristalline; en utilisant la diffusion de la radiation par les matériaux, p.ex. pour rechercher les matériaux non cristallins; en utilisant la réflexion de la radiation par les matériaux
203en mesurant la rétrodiffusion
CPC
G01N 23/20
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
20by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
G01N 23/201
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
20by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
201by measuring small-angle scattering
G01N 23/203
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
20by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
203Measuring back scattering
Déposants
  • RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 9-12, Matsubara-cho 3-chome Akishima-shi, Tokyo 196-8666, JP (AllExceptUS)
  • OMOTE, Kazuhiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • OMOTE, Kazuhiko; JP
Mandataires
  • OKAZAKI, Kenshu; 6F, Mani-Building 37-10, Udagawa-cho Shibuya-ku, Tokyo 150-0042, JP
Données relatives à la priorité
2001-19511227.06.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) NONUNIFORM−DENSITY SAMPLE ANALYZING METHOD, DEVICE, AND SYSTEM
(FR) PROCEDE, DISPOSITIF ET SYSTEME D'ANALYSE D'ECHANTILLON DE DENSITE IRREGULIERE
Abrégé
(EN)
A nonuniform−density sample analyzing method for analyzing the distribution of particles in a nonuniform−density sample, wherein the actual−measurement X−ray scattering curve is an in−plane X−ray scattering curve plotted by in−plane diffraction measurement, the in−plane X−ray scattering curve is fitted to a simulation X−ray scattering curve, the value of a fitting parameter of when the simulation X−ray scattering curve agrees with the in−plane X−ray scattering curve is made the distribution in the in−plane direction of the particles of the nonuniform−density sample, and thereby the distribution in the in−plane direction of the particles of the anisotropic nonuniform−density sample is analyzed simply with high accuracy. Its device and system are also disclosed.
(FR)
La présente invention concerne un procédé d'analyse d'échantillon de densité irrégulière pour analyser la distribution des particules dans un échantillon de densité irrégulière. En l'occurrence, la courbe de dispersion des rayons X de la mesure réelle est une courbe de dispersion des rayons X dans le plan, tracée par mesure de diffraction dans le plan. La courbe de dispersion des rayons X dans le plan est adaptée à une simulation de courbe de dispersion des rayons X. La valeur d'un paramètre d'adaptation correspondant à la concordance entre la simulation de courbe de dispersion des rayons X et la courbe de dispersion des rayons X dans le plan devient la distribution selon l'orientation dans le plan des particules de l'échantillon de densité irrégulière. Cela permet de mesurer de façon simple avec une haute précision la distribution selon l'orientation dans le plan des particules de l'échantillon anisotrope de densité irrégulière. L'invention concerne également le dispositif et le système correspondant.
Également publié en tant que
RU2004112417
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