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Paramétrages

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1. WO2003001250 - PROCEDE DE REALISATION D'UNE SURFACE DE MIROIR ET MIROIR DOTE DE CETTE SURFACE

Numéro de publication WO/2003/001250
Date de publication 03.01.2003
N° de la demande internationale PCT/SE2002/001189
Date du dépôt international 19.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 13.01.2003
CIB
C23C 28/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
28Revêtement pour obtenir au moins deux couches superposées, soit par des procédés non prévus dans un seul des groupes principaux C23C2/-C23C26/180
C25D 7/08 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
7Dépôt électrochimique caractérisé par l'objet à revêtir
08Miroirs; Réflecteurs
G02B 5/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
CPC
C23C 28/322
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
28Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
32including at least one pure metallic layer
322only coatings of metal elements only
C23C 28/345
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
28Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
34including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
345with at least one oxide layer
C25D 7/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING
7Electroplating characterised by the article coated
08Mirrors; Reflectors
G02B 5/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
Déposants
  • FLIR SYSTEMS AB [SE/SE]; Box 3 S-182 11 Danderyd, SE (AllExceptUS)
  • RYDQVIST, Thomas [SE/SE]; SE (UsOnly)
Inventeurs
  • RYDQVIST, Thomas; SE
Mandataires
  • FORSBERG, Carl-Göran; Saab Bofors Support AB Patents and Trademarks S-691 80 Karlskoga, SE
Données relatives à la priorité
0102259-926.06.2001SE
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt suédois (SV)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR ACHIEVING A MIRROR SURFACE AND MIRROR WITH SUCH A MIRROR SURFACE
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UNE SURFACE DE MIROIR ET MIROIR DOTE DE CETTE SURFACE
Abrégé
(EN)
In a method for achieving a required mirror surface on an aluminium workpiece (1), four different production steps (A, B, C, D) are used. In a first production step, an initial surface (1a) is produced by the aluminium workpiece undergoing one or more turning processes. During the turning process, the surface is produced with an exceptional turning precision. In a second production step, the initial surface is hard-anodised in an electrolyte bath (6) to create an intermediate surface. The hard-anodising is carried out in such a way that an oxide layer of Al2O3 is formed on the turned initial surface. In a third production step, the hard-anodised intermediate surface is polished to prescribed polishing precision, and in a fourth production step, the polished surface is surface-coated with a material or substance in order to produce the required mirror surface. The invention also relates to a mirror or mirror surface and makes possible the production of low-weight mirrors/mirror surfaces with very good reflective properties.
(FR)
L'invention concerne un procédé en quatre étapes (A, B, C, D) permettant de réaliser une surface de miroir requise sur une pièce en aluminium (1). Dans une première étape de production, une surface initiale (1a) est produite à l'aide d'au moins un procédé d'usinage de la pièce en aluminium au cours duquel la surface est réalisée avec une précision d'usinage exceptionnelle. Dans une seconde étape de production, la surface initiale est soumise à une anodisation dure dans un bain d'électrolyte (6) afin de créer une surface intermédiaire. L'anodisastion dure est effectuée de sorte qu'une couche d'oxyde de Al2O3 est formée sur la surface initiale usinée. Dans une troisième étape de production, la surface intermédiaire soumis à l'anodisation dure est polie avec une précision prédéterminée. Enfin, dans une quatrième étape de production, la surface polie est recouverte d'un matériau ou d'une substance afin de produire la surface de miroir requise. L'invention concerne également un miroir ou une surface de miroir, et permet de produire des miroirs/surfaces de miroir dotés de bonnes propriétés réfléchissantes.
Également publié en tant que
CZPV2003-3533
RU2004105855
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