Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2002095811 - DISPOSITIF OPTIQUE ECLAIRANT, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION DE MICRODISPOSITIF

Numéro de publication WO/2002/095811
Date de publication 28.11.2002
N° de la demande internationale PCT/JP2002/005006
Date du dépôt international 23.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 18.12.2002
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/701
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
701Off-axis setting using an aperture
G03F 7/70108
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
70108Off-axis setting using a light-guiding element
G03F 7/70158
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
7015Details of optical elements
70158Diffractive optical elements
G03F 7/70183
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
7015Details of optical elements
70183Zoom systems
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • TANITSU, Osamu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KANAYAMAYA, Nobumichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • OZAWA, Haruo [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • TANITSU, Osamu
  • KANAYAMAYA, Nobumichi
  • OZAWA, Haruo
Mandataires
  • SHIGA, Masatake
Données relatives à la priorité
2001-15453923.05.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LIGHTING OPTICAL DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND PRODUCTION METHOD OF MICRO DEVICE
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE ECLAIRANT, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION DE MICRODISPOSITIF
Abrégé
(EN)
A lighting optical device and an exposure system which reduce the number of optical members such as lenses while preventing a reduction in light quantity, can enhance a light utilization efficiency even in the case of modified lighting such as annular lighting, and can reduce running costs. Revolvers (4, 5), and a zoom optical system (6) are disposed in that order on the optical path of a light flux supplied from a light source (1).The revolvers (4, 5) are provided with diffraction optical elements for converting the light flux supplied from the light source (1) into one having a specified section shape, a plurality of diffraction optical elements having different conversion characteristics for different section shapes of light fluxes to be converted being provided. The zoom optical system (6) changes the optical intensity distribution of a light flux having the section shape thereof converted by diffraction optical elements, and consists of up to five lenses (6a - 6d) with a variable power ratio of up to 2.3.
(FR)
Un dispositif optique éclairant et un système d'exposition qui réduise le nombre d'éléments optiques tels que les lentilles tout en empêchant une réduction de quantité de lumière, peuvent renforcer l'efficacité d'utilisation de la lumière, même en cas d'éclairage modifié tel que l'éclairage annulaire, et peuvent réduire les coûts de mise en oeuvre. Des revolvers (4, 5) et un système optique à zoom (6) sont disposés dans cet ordre sur le trajet optique d'un flux lumineux fourni depuis une source de lumière (1). Les revolvers (4, 5) sont équipés d'éléments optiques à diffraction convertissant le flux lumineux fourni depuis la source de lumière (1) en un flux lumineux d'une forme en coupe spécifié, une pluralité des éléments optiques à diffraction présentant des caractéristiques de conversion différentes pour les différentes formes en coupe des flux lumineux. Le système optique à zoom (6) modifie la distribution des intensités optiques d'un flux lumineux dont la forme en coupe est convertie par les éléments optiques à diffraction. Il est constitué d'un groupe de 5 lentilles au maximum (6a - 6d) d'un rapport de puissances pouvant atteindre 2.3.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international