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1. (WO2002094455) PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/094455    N° de la demande internationale :    PCT/RU2002/000237
Date de publication : 28.11.2002 Date de dépôt international : 17.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.12.2002    
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), B29C 59/14 (2006.01), C23C 16/515 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : PLASMA TECH CO., LTD. [KR/KR]; #507 SK APT FACTORY, 223-28 SANGDAEWONI-DONG, JUNGWON-KU, KYUNGKI-DO, 462-12 SUNGNAM-CITY (KR) (AE, AG, AL, AT, AU, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KP, KR, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TN, TR, TT, TZ, UG, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
ALEXANDROV, Andrei F. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
BUGROV, Gleb E. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
VAVILIN, Konstantin V. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
KONDRANIN, Sergei G. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
KRALKINA, Elena A. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
PAVLOV, Vladimir B. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
PLAKSIN, Vadim J. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
SERGIENKO, Vladimir J. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only).
TIMOFEEV, Igor B. [RU/RU]; (RU) (AM, AZ, BY, GE, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, UA, US, UZ only)
Inventeurs : ALEXANDROV, Andrei F.; (RU).
BUGROV, Gleb E.; (RU).
VAVILIN, Konstantin V.; (RU).
KONDRANIN, Sergei G.; (RU).
KRALKINA, Elena A.; (RU).
PAVLOV, Vladimir B.; (RU).
PLAKSIN, Vadim J.; (RU).
SERGIENKO, Vladimir J.; (RU).
TIMOFEEV, Igor B.; (RU)
Mandataire : MELYAN, Alexander, R.; G-467, a/ya 58, Moscow, 121467 (RU)
Données relatives à la priorité :
2001113237 18.05.2001 RU
Titre (EN) PROCESS FOR PLASMA TREATMENT AND APPARATUS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A process for plasma treatment of materials involves supplying of a working gas stream into a discharge gap and igniting a pulsating electric discharge by means of an ignitor electrode (4). An elongated discharge electrode is arranged opposite to the surface to be treated and is preferably formed as a steel string (1). A cyclically variable voltage is supplied to the string (1) for maintaining an extended pulsating discharge under atmospheric pressure. The gas stream is introduced at an angle of 100 to 600 to the longitudinal axis of symmetry of the string (1) and directed toward the surface to be treated. A gas distributing means of the apparatus for treating materials comprises a housing (5) of dielectric material in which inclined gas supply channels (8) are formed. Outlet openings of inclined channels (8) are uniformly distributed over the surface of the housing (5) and arranged opposite to the string (1) lengthwise thereof. The invention permits modification of the surface properties of the material to be treated to a high level of uniformity.
(FR)Un procédé destiné au traitement de matériaux au plasma consiste à alimenter un flux de gaz de travail dans un intervalle à décharges et allumer une décharge électrique pulsée au moyen d'une électrode d'allumage (4). Une électrode à décharges allongée est montée face à la surface à traiter; elle se présente de préférence comme une corde en acier (1). Une tension variable cyclique alimente la corde (1) pour maintenir une décharge pulsée étendue sous pression atmosphérique. Le flux gazeux est injecté sous un angle de 100 à 600 par rapport à l'axe de symétrie longitudinal de la corde (1); il est dirigé vers la surface à traiter. Un système de distribution de gaz de l'appareil à traiter les matériaux comprend un boîtier (5) fait d'un matériau diélectrique dans lequel sont formés des canaux inclinés d'alimentation en gaz (8). Les ouvertures de sortie desdits canaux inclinés (8) sont réparties uniformément sur toute la surface du boîtier (5) et aménagées à l'opposé de la corde (1), dans le sens de la longueur de celle-ci. L'invention permet de modifier les propriétés de surface du matériau à traiter pour les porter à un degré d'uniformité élevé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)