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1. WO2002093699 - SYSTEME DE LASER A DECHARGE GAZEUSE A QUATRE KHZ

Numéro de publication WO/2002/093699
Date de publication 21.11.2002
N° de la demande internationale PCT/US2002/012062
Date du dépôt international 15.04.2002
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01S 3/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
H01S 3/036 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
02Détails de structure
03des tubes laser à décharge dans le gaz
036Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
H01S 3/038 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
02Détails de structure
03des tubes laser à décharge dans le gaz
038Electrodes, p.ex. forme, configuration ou composition particulières
H01S 3/041 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
02Détails de structure
04Dispositions pour le refroidissement
041pour des lasers à gaz
H01S 3/0975 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
3Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, le visible ou l’ultraviolet
09Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
097par décharge dans le gaz d'un laser à gaz
0975utilisant une excitation inductive ou capacitive
CPC
G03F 7/70025
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70025by lasers
G03F 7/70933
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70933Purge
H01S 3/0057
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
0057Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
H01S 3/036
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
03of gas laser discharge tubes
036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
H01S 3/0385
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
03of gas laser discharge tubes
038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
0385Shape
H01S 3/041
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
02Constructional details
04Arrangements for thermal management
041for gas lasers
Déposants
  • CYMER, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • WITTAK, Christian, J. [US]/[US] (UsOnly)
  • PARTLO, William, N. [US]/[US] (UsOnly)
  • SANDSTROM, Richard, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • MELCHER, Paul, C. [US]/[US] (UsOnly)
  • JOHNS, David, M. [US]/[US] (UsOnly)
  • SAETHRE, Robert, B. [US]/[US] (UsOnly)
  • NESS, Richard, M. [US]/[US] (UsOnly)
  • RETTIG, Curtis, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • SHANNON, Robert, A. [US]/[US] (UsOnly)
  • UJAZDOWSKI, Richard, C. [US]/[US] (UsOnly)
  • ROKNI, Shahryar [US]/[US] (UsOnly)
  • SMITH, Scott [US]/[US] (UsOnly)
  • ANDERSON, Stuart, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • ALGOTS, John, M. [US]/[US] (UsOnly)
  • SPANGLER, Ronald, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • FOMENKOV, Igor [US]/[US] (UsOnly)
  • STEIGER, Thomas, D. [US]/[US] (UsOnly)
  • EMILO, Jerome, A. [US]/[US] (UsOnly)
  • TITUS, Clay, C. [US]/[US] (UsOnly)
  • IVASCHENKO, Alex, P. [US]/[US] (UsOnly)
  • ZAMBON, Paolo [IT]/[US] (UsOnly)
  • PADMABANDU, Gamaralalage, G. [LK]/[US] (UsOnly)
  • BRANHAM, Mark, S. [US]/[US] (UsOnly)
  • PHATAK, Sanjay [US]/[US] (UsOnly)
  • CYBULSKI, Raymond [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • WITTAK, Christian, J.
  • PARTLO, William, N.
  • SANDSTROM, Richard, L.
  • MELCHER, Paul, C.
  • JOHNS, David, M.
  • SAETHRE, Robert, B.
  • NESS, Richard, M.
  • RETTIG, Curtis, L.
  • SHANNON, Robert, A.
  • UJAZDOWSKI, Richard, C.
  • ROKNI, Shahryar
  • SMITH, Scott
  • ANDERSON, Stuart, L.
  • ALGOTS, John, M.
  • SPANGLER, Ronald, L.
  • FOMENKOV, Igor
  • STEIGER, Thomas, D.
  • EMILO, Jerome, A.
  • TITUS, Clay, C.
  • IVASCHENKO, Alex, P.
  • ZAMBON, Paolo
  • PADMABANDU, Gamaralalage, G.
  • BRANHAM, Mark, S.
  • PHATAK, Sanjay
  • CYBULSKI, Raymond
Mandataires
  • ROSS, John, R.
Données relatives à la priorité
09/854,09711.05.2001US
09/943,34329.08.2001US
10/000,99114.11.2001US
10/012,00230.11.2001US
10/029,31917.10.2001US
10/036,67621.12.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) FOUR KHz GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
(FR) SYSTEME DE LASER A DECHARGE GAZEUSE A QUATRE KHZ
Abrégé
(EN)
The present invention provides an excimer laser capable of producing a high quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse energies of about 5mJ or greater. A preferred embodiment is an ArF excimer laser specifically designed as a light source for integrated circuit lithography. An improved wavemeter (4K) with special software monitors output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror, which is in a line narrowing module (15K) and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors (16K and 17K) drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear discharge debris from the the discharge region during the approximately 0.25 milliseconds between pulses.
(FR)
La présente invention concerne un laser à excimères capable de produire un faisceau laser à impulsions de haute qualité à des taux d'impulsion d'environ 4'000 Hz et à des énergies d'impulsion supérieures ou égales à 5 mJ environ. Un mode de réalisation préféré de l'invention concerne un laser à excimères au fluorure d'argon conçu spécialement sous forme de source de lumière pour la lithographie de circuits intégrés. Un ondemètre amélioré (4K) équipé d'un logiciel spécial permet de contrôler des paramètres de sortie du faisceau et de commander un miroir de réglage à entraînement piézo-électrique très rapide qui est dans un module de rétrécissement de ligne (15K), ainsi que la tension de charge de la puissance d'impulsion, afin de maintenir la longueur d'onde et l'énergie d'impulsion dans les limites souhaitées. Dans un mode de réalisation préféré, deux moteurs de ventilateur (16K, 17K) entraînent un seul ventilateur tangentiel fournissant un courant gazeux suffisant pour éliminer les débris de décharge de la région de décharge pendant les 0,25 millisecondes environ qui séparent chaque impulsion.
Également publié en tant que
CN02809752.1
KR1020037014645
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international