(EN) The present invention provides an excimer laser capable of producing a high quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse energies of about 5mJ or greater. A preferred embodiment is an ArF excimer laser specifically designed as a light source for integrated circuit lithography. An improved wavemeter (4K) with special software monitors output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror, which is in a line narrowing module (15K) and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors (16K and 17K) drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear discharge debris from the the discharge region during the approximately 0.25 milliseconds between pulses.
(FR) La présente invention concerne un laser à excimères capable de produire un faisceau laser à impulsions de haute qualité à des taux d'impulsion d'environ 4'000 Hz et à des énergies d'impulsion supérieures ou égales à 5 mJ environ. Un mode de réalisation préféré de l'invention concerne un laser à excimères au fluorure d'argon conçu spécialement sous forme de source de lumière pour la lithographie de circuits intégrés. Un ondemètre amélioré (4K) équipé d'un logiciel spécial permet de contrôler des paramètres de sortie du faisceau et de commander un miroir de réglage à entraînement piézo-électrique très rapide qui est dans un module de rétrécissement de ligne (15K), ainsi que la tension de charge de la puissance d'impulsion, afin de maintenir la longueur d'onde et l'énergie d'impulsion dans les limites souhaitées. Dans un mode de réalisation préféré, deux moteurs de ventilateur (16K, 17K) entraînent un seul ventilateur tangentiel fournissant un courant gazeux suffisant pour éliminer les débris de décharge de la région de décharge pendant les 0,25 millisecondes environ qui séparent chaque impulsion.