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1. WO2002091026 - PROCEDE ET SYSTEME DE DETECTION DE DEFAUT DE PHASE EFFICACES

Numéro de publication WO/2002/091026
Date de publication 14.11.2002
N° de la demande internationale PCT/US2002/014173
Date du dépôt international 02.05.2002
CIB
G01N 21/956 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956Inspection de motifs sur la surface d'objets
G03F 1/84 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
82Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
84Inspection
G03F 1/26 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
26Masques à décalage de phase ; Substrats pour PSM; Leur préparation
CPC
G01N 21/95607
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95607using a comparative method
G03F 1/26
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
26Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
G03F 1/84
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
84Inspecting
Déposants
  • KLA-TENCOR CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • KRANTZ, Matthias, C.
  • WIHL, Mark, Joseph
  • STOKOWSKI, Stanley, E.
Mandataires
  • PARSONS HSUE & DE RUNTZ LLP
Données relatives à la priorité
09/849,61404.05.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) EFFICIENT PHASE DEFECT DETECTION SYSTEM AND METHOD
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE DETECTION DE DEFAUT DE PHASE EFFICACES
Abrégé
(EN)
Inspection of photomasks for defects in phase-shifters is enhanced using optical techniques based on multiple modified radiation collection techniques, which allows allow for errors in phase-shifters to be more accurately detected. The system includes an illumination system (105), at least on collection system (107R, 107T), and a data analysis section (108). In one embodiment, the intensities of two slightly defocused images of phase objects corresponding to the same photomask location are compared. In a second embodiment, radiation having two Zernike point spread functions is used to obtain two slightly different phase sensitive images. Data collected and analyzed by the data analysis section (108) using this method provides much greater sensitivity to phase objects and errors in phase objects than prior art inspection systems. Embodiments include both scanning-type and projector type optical architectures and may utilize radiation transmitted or reflected by a sample.
(FR)
La capacité de systèmes d'inspection de masques photographiques permettant de détecter des erreurs ou des défauts dans des décaleurs de phase est grandement améliorée par utilisation de techniques optiques basées sur plusieurs techniques de collecte de rayonnement modifié. L'appareil et les procédés de l'invention permettent, notamment, de détecter plus précisément des erreurs dans des décaleurs de phase, même en présence d'objets d'amplitude régulière tels que des lignes de référence. Dans un mode de réalisation, on compare les intensités de deux images d'objets de phase légèrement défocalisées correspondant à la même implantation de masque photographique. Dans un second mode de réalisation, on utilise un rayonnement possédant deux fonctions d'étalement de point de Zernike pour obtenir deux images de phase sensibles légèrement différentes. Des données collectées et analysées à l'aide de ce procédé permettent d'obtenir une plus grande sensibilité aux objets de phase et aux erreurs dans ces objets que dans les systèmes d'inspection de la technique de l'art. Certains modes de réalisation comprennent à la fois des architectures de type balayage et de type projecteur, et peuvent utiliser un rayonnement transmis ou réfléchi par un échantillon.
Également publié en tant que
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