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1. WO2002088794 - PROCEDE DE FABRICATION DE GUIDES D'ONDES POLYMERES

Numéro de publication WO/2002/088794
Date de publication 07.11.2002
N° de la demande internationale PCT/US2002/010770
Date du dépôt international 04.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 20.11.2002
CIB
G02B 6/122 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
122Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/13 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
13Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
CPC
G02B 6/1221
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
1221made from organic materials
G02B 6/13
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
Déposants
  • E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US]/[US]
Inventeurs
  • BATTELL, Kevin R
  • BEESON, Karl W
  • FERM, Paul M
  • MAXFIELD, Macrae
  • PANT, Deepti
  • SCHACKLETTE, Lawrence W
Mandataires
  • SIEGELL, Barbara, C.
Données relatives à la priorité
09/846,69701.05.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) POLYMER WAVEGUIDE FABRICATION PROCESS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE GUIDES D'ONDES POLYMERES
Abrégé
(EN)
The invention relates to a process a process for forming single-mode, organic waveguides employing organic polymeric materials. The process reduces dissolved and gaseous oxygen content to very low quantities, resulting in production of waveguides having superior properties and manufacturability. Also provided is a process for preventing loss of light due to cores having flared ends. A waveguide is produced by sequentially a layer of a liquid, photosensitive buffer and clad composition to a surface of a substrate; deoxygenating under vacuum; overall exposing under an inert gas actinic radiation to partially polymerize the compositions below a full curing. Coating a photosensitive core composition to the clad composition; deoxygenating under vacuum, covering with an inert gas atmosphere; positioning a photomask above, but not in contact with the core layer; imagewise exposing the core through a photomask pattern to actinic radiation to partially polymerize the core composition; developing core; coating a photosensitive overclad composition over the image areas of the core composition; deoxygenating under vacuum; overall exposing the overclad composition, under inert gas to actinic radiation to substantially fully cure the optional buffer composition, the underclad composition, the core composition and the clad composition.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication de guides d'ondes organiques monomode au moyen de polymères organiques. Ce procédé réduit la teneur en oxygène gazeux et dissolu à de très faibles quantités, ce qui entraîne la production de guides d'ondes possédant des propriétés et une manufacturabilité améliorée. L'invention concerne aussi un procédé destiné à prévenir la perte de lumière causée par les noyaux possédant des bouts évasés. Un guide d'onde est produit de façon séquentielle à partir d'une couche de liquide, d'un tampon photosensible et d'une composition de revêtement sur une surface de substrat; par désoxygénation sous vide; par exposition globale à une radiation actinique de gaz inerte afin de polymériser partiellement les compositions avant leur séchage complet. Il est produit par revêtement d'une composition de noyau photosensible au moyen d'une composition de revêtement; par désoxygénation sous vide, par recouvrement au moyen d'une atmosphère gazeuse; par positionnement d'un photomasque au-dessus, mais pas en contact avec la couche de noyau; par exposition sous forme d'image du noyau à travers un motif du photomasque à la radiation actinique afin de polymériser partiellement la composition de noyau; par développement du noyau; par revêtement d'une composition de revêtement photosensible supérieur sur les zones d'image de la composition de noyau; par désoxygénation sous vide; par exposition globale de la composition de revêtement, sous atmosphère gazeuse, à la radiation actinique afin de sécher sensiblement entièrement la composition de tampon facultative, la composition de revêtement inférieur, la composition de noyau et la composition de revêtement.
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