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1. (WO2002088794) PROCEDE DE FABRICATION DE GUIDES D'ONDES POLYMERES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/088794 N° de la demande internationale : PCT/US2002/010770
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 04.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 20.11.2002
CIB :
G02B 6/122 (2006.01) ,G02B 6/13 (2006.01)
Déposants : E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY[US/US]; 1007 Market Street Wilmington, DE 19898, US
Inventeurs : BATTELL, Kevin R; US
BEESON, Karl W; US
FERM, Paul M; US
MAXFIELD, Macrae; US
PANT, Deepti; US
SCHACKLETTE, Lawrence W; US
Mandataire : SIEGELL, Barbara, C.; E.I. du Pont de Nemours and Company Legal Patent Records Center 4417 Lancaster Pike Wilmington, DE 19805, US
Données relatives à la priorité :
09/846,69701.05.2001US
Titre (EN) POLYMER WAVEGUIDE FABRICATION PROCESS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE GUIDES D'ONDES POLYMERES
Abrégé :
(EN) The invention relates to a process a process for forming single-mode, organic waveguides employing organic polymeric materials. The process reduces dissolved and gaseous oxygen content to very low quantities, resulting in production of waveguides having superior properties and manufacturability. Also provided is a process for preventing loss of light due to cores having flared ends. A waveguide is produced by sequentially a layer of a liquid, photosensitive buffer and clad composition to a surface of a substrate; deoxygenating under vacuum; overall exposing under an inert gas actinic radiation to partially polymerize the compositions below a full curing. Coating a photosensitive core composition to the clad composition; deoxygenating under vacuum, covering with an inert gas atmosphere; positioning a photomask above, but not in contact with the core layer; imagewise exposing the core through a photomask pattern to actinic radiation to partially polymerize the core composition; developing core; coating a photosensitive overclad composition over the image areas of the core composition; deoxygenating under vacuum; overall exposing the overclad composition, under inert gas to actinic radiation to substantially fully cure the optional buffer composition, the underclad composition, the core composition and the clad composition.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de guides d'ondes organiques monomode au moyen de polymères organiques. Ce procédé réduit la teneur en oxygène gazeux et dissolu à de très faibles quantités, ce qui entraîne la production de guides d'ondes possédant des propriétés et une manufacturabilité améliorée. L'invention concerne aussi un procédé destiné à prévenir la perte de lumière causée par les noyaux possédant des bouts évasés. Un guide d'onde est produit de façon séquentielle à partir d'une couche de liquide, d'un tampon photosensible et d'une composition de revêtement sur une surface de substrat; par désoxygénation sous vide; par exposition globale à une radiation actinique de gaz inerte afin de polymériser partiellement les compositions avant leur séchage complet. Il est produit par revêtement d'une composition de noyau photosensible au moyen d'une composition de revêtement; par désoxygénation sous vide, par recouvrement au moyen d'une atmosphère gazeuse; par positionnement d'un photomasque au-dessus, mais pas en contact avec la couche de noyau; par exposition sous forme d'image du noyau à travers un motif du photomasque à la radiation actinique afin de polymériser partiellement la composition de noyau; par développement du noyau; par revêtement d'une composition de revêtement photosensible supérieur sur les zones d'image de la composition de noyau; par désoxygénation sous vide; par exposition globale de la composition de revêtement, sous atmosphère gazeuse, à la radiation actinique afin de sécher sensiblement entièrement la composition de tampon facultative, la composition de revêtement inférieur, la composition de noyau et la composition de revêtement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)