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1. (WO2002080254) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA PAR MICRO-ONDES, PROCEDE D'ALLUMAGE DE PLASMA, PROCEDE DE FORMATION DE PLASMA ET PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/080254    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003113
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 28.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.10.2002    
CIB :
C23C 16/517 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP).
TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
HIRAYAMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGAWA, Shigetoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOTO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHMI, Tadahiro; (JP).
HIRAYAMA, Masaki; (JP).
SUGAWA, Shigetoshi; (JP).
GOTO, Tetsuya; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 150-6032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-094277 28.03.2001 JP
Titre (EN) MICROWAVE PLASMA PROCESS DEVICE, PLASMA IGNITION METHOD, PLASMA FORMING METHOD, AND PLASMA PROCESS METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA PAR MICRO-ONDES, PROCEDE D'ALLUMAGE DE PLASMA, PROCEDE DE FORMATION DE PLASMA ET PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A microwave plasma process device (10) is provided with a plasma ignition enhancing means for enhancing plasma ignition by microwaves. The plasma ignition enhancing means comprises a deuterium lamp (30) which generates vacuum ultraviolet rays, and a penetration window (32) guiding the vacuum ultraviolet rays, which have penetrated the same, to a plasma excitation space (26). The penetration window (32) is constructed as a convex lens, focusing the vacuum ultraviolet rays to enhance the ionization of the plasma excitation gas. Such arrangement makes it possible to effect plasma ignition easily and rapidly.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement plasma par micro-ondes (10) qui comprend un système d'amélioration de l'allumage du plasma permettant d'améliorer l'allumage du plasma au moyen de micro-ondes. Ce système d'amélioration de l'allumage du plasma comprend une lampe au deutérium (30) qui génère des rayons ultraviolets extrêmes, ainsi qu'une fenêtre de pénétration (32) guidant les rayons ultraviolets extrêmes qui la traversent vers un espace d'excitation du plasma (26). Cette fenêtre de pénétration (32) se présente sous la forme d'une lentille convexe focalisant les rayons ultraviolets extrêmes pour améliorer l'ionisation du gaz d'excitation du plasma. Cette configuration permet d'agir sur l'allumage du plasma de manière simple et rapide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)