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1. (WO2002079367) NETTOYANT POUR TISSU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/079367    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/003420
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 25.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.09.2002    
CIB :
A47L 25/08 (2006.01), C11D 1/825 (2006.01), C11D 1/83 (2006.01), C11D 1/94 (2006.01), C11D 17/04 (2006.01)
Déposants : UNILEVER N.V. [NL/NL]; Weena 455, NL-3013 AL Rotterdam (NL) (AE, AL, AM, AT, AZ, BA, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GE, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IS, IT, JP, KG, KP, KR, KZ, LC, LR, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MR, MX, NE, NL, NO, PH, PL, PT, RO, RU, SE, SI, SK, SN, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, UA, UZ, VN, YU only).
UNILEVER PLC [GB/GB]; Unilever House, Blackfriars, London, Greater London EC4P 4BQ (GB) (AG, AU, BB, BZ, CA, CY, GB, GD, GH, GM, IE, IL, KE, LK, LS, MN, MW, MZ, NZ, OM, SD, SG, SL, SZ, TT, TZ, UG, ZA, ZM, ZW only).
HINDUSTAN LEVER LTD [IN/IN]; Hindustan Lever LTD, 165 - 166 Backbay Reclamation, Mumbai 400 020 (IN) (IN only)
Inventeurs : GOLDONI, Francesca; (IT).
HUTCHINSON, Wendi; (GB).
KEVELAM, Piet; (NL).
LEERINK, Arinus, Frederikus; (NL).
REEVEN, VAN, Piet; (NL).
VLIST, VAN DER, Pieter; (NL)
Mandataire : ROSEN JACOBSON, Frans; Unilever N.V., Patent Department, Olivier van Noortlaan 120, NL-3133 AT Vlaardingen (NL)
Données relatives à la priorité :
0108196.7 02.04.2001 GB
01204119.0 29.10.2001 EP
01205064.7 21.12.2001 EP
Titre (EN) FABRIC CLEANER
(FR) NETTOYANT POUR TISSU
Abrégé : front page image
(EN)Fabric cleaningA method and device for spot cleaning a fabric with liquid cleaning composition comprising the steps of a) applying the composition to the fabricwherein the liquid cleaning composition comprises from 0.001 to 2 wt.%, preferably from 0.01 to 1.5 wt.%, more preferably from 0.05 to 0.9 wt.% of a amphoteric or zwitterionic surfactant;from 0.001 to 2 wt.%, preferably from 0.01 to 1.5 wt.%, more preferably from 0.05 to 0.9 wt.% of a nonionic surfactant;from 0 to 2 wt.% preferably from 0.01 to 1.5 wt.%, more preferably from 0.05 to 0.9 wt.% of an anionic surfactant; andb) absorbing the excess liquid cleaning composition with an absorbent means. The device preferably comprises both the cleaning composition and the absorbent means.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de nettoyer individuellement des taches sur un tissu au moyen d'une composition nettoyante liquide, ce procédé consistant: a) à appliquer cette composition sur le tissu, cette composition nettoyante liquide contenant de 0,001 à 2 % en poids, de préférence de 0,01 à 1,5 % en poids, idéalement de 0,05 à 0,09 % en poids d'un tensio-actif amphotère ou zwittérionique; de 0,001 à 2 % en poids, de préférence de 0,01 à 1,5 % en poids, idéalement de 0,05 à 0,9 % en poids d'un tensio-actif non ionique; de 0 à 2 % en poids, de préférence de 0,01 à 1,5 % en poids, idéalement de 0,05 à 0,9 % en poids d'un tensio-actif anionique; et b) à absorber l'excédent de composition nettoyante liquide au moyen d'un élément absorbant. Ce dispositif comporte de préférence à la fois la composition nettoyante et l'élément absorbant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)