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1. (WO2002047868) COMPOSITION POUR PROCEDE DE TEXTURATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/047868    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/010851
Date de publication : 20.06.2002 Date de dépôt international : 11.12.2001
CIB :
C09K 3/14 (2006.01), G11B 5/708 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shiba Daimon 1-chome Minato-ku Tokyo 105-8518 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAGUCHI SEIKEN KOGYO K.K. [JP/JP]; 153, Horogo Narumicho Midori-ku, Nagoya-shi Aichi 458-0801 (JP) (Tous Sauf US).
ITO, Katsura [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMADA, Jiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HON, Kimihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANDA, Megumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ITO, Katsura; (JP).
YAMADA, Jiro; (JP).
HON, Kimihiro; (JP).
KANDA, Megumi; (JP)
Mandataire : FUKUDA, Kenzo; Kashiwaya Building 2F 6-13, Nishihinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-0003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-404282 15.12.2000 JP
60/269,849 21.02.2001 US
Titre (EN) COMPOSITION FOR TEXTURING PROCESS
(FR) COMPOSITION POUR PROCEDE DE TEXTURATION
Abrégé : front page image
(EN)A composition for use in texturing includes (i) microparticles or powder formed of at least one species selected from the group consisting of diamond, CBN, alumina and silicon carbide; (ii) at least one species selected from the group consisting of C2-C5 polyhydric alcohols, polycondensed products of the alcohols and alkylene glycol monoalkyl ethers represented by formula R¿1?O(C¿n?H¿2n?O)¿m?H (wherein R¿1? represents a C1-C4 linear or branched alkyl group, m is an integer of 1 to 3 and n is 2 or 3); and (iii) a C10-C22 fatty acid. When polishing a substrate using the composition, it is possible to form minute texturing lines, remove 'polish lines' and 'polish scratches' and minimize the mean surface roughness (Ra) of the undercoat layer of the substrate after texturing.
(FR)L'invention concerne une composition destinée à être utilisée en texturation, qui comprend (i) des microparticules ou une poudre formées d'au moins une espèce choisie dans le groupe comprenant diamant, CBN, alumine et carbure de silicium, (ii) au moins une espèce choisie dans le groupe comprenant des alcools polyhydriques C2-C5, des produits polycondensés de ces alcools et des éthers monoalkyliques d'alkylène glycol représentés par la formule R¿1?O(C¿n?H¿2n?O)¿m?H, dans laquelle R¿1 ? représente un groupe alkyle C1-C4 linéaire ou ramifié, m vaut un entier compris entre 1 et 3 et n vaut 2 ou 3, et (iii) un acide gras C10-C22. Lorsqu'un substrat est poli à l'aide de cette composition, il est possible de former de fines lignes de texturation, d'éliminer des 'lignes de polissage' et des 'éraflures de polissage' ainsi que de réduire au maximum la rugosité moyenne de surface (Ra) de la sous-couche d'un substrat après texturation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)