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1. (WO2002024237) COMPOSITION DESODORISANTE LIQUIDE ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/024237    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/008275
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 21.09.2001
CIB :
A61L 9/01 (2006.01)
Déposants : WITHGAIA CO., LTD. [JP/JP]; 24-12, Suizenji 5-chome, Kumamoto-shi, Kumamoto 862-0950 (JP) (Tous Sauf US).
ISOBE, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASADA, Kunio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIHARA, Shuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHINOHARA, Ryota [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISOBE, Toshiyuki; (JP).
SASADA, Kunio; (JP).
SUGIHARA, Shuichi; (JP).
SHINOHARA, Ryota; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-286673 21.09.2000 JP
Titre (EN) LIQUID DEODORANT COMPOSITION AND METHOD FOR USE THEREOF
(FR) COMPOSITION DESODORISANTE LIQUIDE ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A liquid deodorant composition which consists substantially of an aqueous solution containing a halide of a 3d transition metal. The liquid deodorant composition is capable of effectively reducing an offensive odor, particularly, a sulfur-containing offensive odor component and a nitrogen-containing offensive odor component and also can be produced at low facility and operation costs.
(FR)La présente invention concerne une composition désodorisante liquide comprenant essentiellement une solution aqueuse contenant un halogénure d'un métal de transition 3d. La composition désodorisante liquide présente des aptitudes à atténuer efficacement une odeur désagréable, notamment une odeur désagréable contenant du soufre et une odeur désagréable contenant de l'azote, et peut également être produite avec une installation simple pour des coûts limités.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)