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1. (WO2002021214) COMPOSITIONS DE POLYMERES ET DE PHOTORESINES A SQUELETTES POLYMERIQUES LABILES POUR IMAGERIE A ONDE COURTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/021214    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/028207
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 08.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.04.2002    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : SHIPLEY COMPANY, L.L.C. [US/US]; 455 Forest Street Marlborough, MA 01752 (US)
Inventeurs : ZAMPINI, Anthony; (US).
CHO, Sungseo; (US).
TREFONAS, Peter; (US)
Mandataire : CORLESS, Peter, F.; Edwards & Angell, LLP Dike, Bronstein, Roberts & Cushman IP Group P.O. Box 9169 Boston, MA 02209 (US)
Données relatives à la priorité :
60/231,392 08.09.2000 US
Titre (EN) USE OF ACETAL/KETAL POLYMERS IN PHOTORESIST COMPOSITIONS SUITABLE FOR SHORT WAVE IMAGING
(FR) COMPOSITIONS DE POLYMERES ET DE PHOTORESINES A SQUELETTES POLYMERIQUES LABILES POUR IMAGERIE A ONDE COURTE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention includes polymers and photoresist compositions that comprises the polymers as a resin binder component. Photoresists of the invention include chemically-amplified positive-acting resists that can be effectively imaged at short wavelengths such as sub-300 nm, particularly 157 nm. Preferred polymers and photoresists include acid labile acetal or ketal groups that help degrade the polymer by hydrolysis. More preferred polymers include at least one electronegative group that reduces or avoids 157 nm absorbance of a wide spectrum of organic groups including aromatic groups such as phenolic moieties.
(FR)L'invention concerne des compositions de polymères et de photorésines, les polymères constituant le composant liant des résines. Les photorésines de l'invention comprennent des résines positives amplifiées chimiquement qui peuvent être imagées efficacement à des longueurs d'ondes courtes, inférieures à 300 nm, en particulier de 157 nm. Des polymères et des photorésines préférés comprennent des groupes acétals ou cétals acides labiles qui favorisent la dégradation du polymère par hydrolyse. Ceux que l'on préfère le plus comprennent au moins un groupe électronégatif qui diminue ou évite l'absorbance à 157 nm d'un large spectre de composés organiques comprenant des groupes aromatiques tels que des entités phénoliques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)