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1. (WO2002019035) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE DESTINEE A DES PLAQUES FLEXOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/019035    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/024547
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 02.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.03.2002    
CIB :
G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/035 (2006.01)
Déposants : MACDERMID, INCORPORATED [US/US]; 245 Freight Street Waterbury, CT 06702 (US)
Inventeurs : LEACH, Douglas; (US).
PALMER-SUNGAIL, Rosemarie; (US).
LEE, Annabel, Younghi; (US)
Mandataire : CORDANI, John, L.; Carmody & Torrance LLP 50 Leavenworth Street P.O. Box 1110 Waterbury, CT 06721-1110 (US)
Données relatives à la priorité :
09/651,746 30.08.2000 US
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATES
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE DESTINEE A DES PLAQUES FLEXOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin, process for its use, and tack-free printing plates formed thereby are disclosed wherein the photosensitive resin comprises (I) polyurethane prepolymer, (ii) ethylenically unsaturated monomer, (iii) photoinitiator and (iv) a tack-reducing additive selected from the group consisting of aromatic carboxylic acids, aromatic carboxylic acid esters, polyunsaturated carboxylic acids, polyunsaturated carboxylic acid esters, and mixture thereof.
(FR)L'invention concerne une résine photosensible, son procédé d'utilisation et des plaques d'impression non-collantes obtenues à l'aide de cette résine photosensible. Cette résine photosensible comprend (I) un prépolymère de polyuréthanne, (ii) un monomère à insaturation éthylénique, (iii) un photoamorceur et (iv) un additif à réduction d'adhérence sélectionné dans le groupe comprenant des acides carboxyliques aromatiques, des esters d'acides carboxyliques aromatiques, des acides carboxyliques polyinsaturés, des esters d'acides carboxyliques polyinsaturés, et des mélanges de ces derniers.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)