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1. WO2001079894 - FILM ANTIREFLET ET PROCEDE DE FABRICATION

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[ JA ]

請求の範囲

1 . 透明基材と、前記透明基材表面に配され、少なくとも単層の微粒 子を有する微粒子層とを有し、前記透明基材表面と前記微粒子とが少な くとも静電的相互作用により付着し、さらに前記微粒子層のバルクの屈 折率が前記透明基材の屈折率より低いことを特徴とする反射防止膜。

2 . 前記透明基材表面と前記微粒子との静電的相互作用による付着が, 前記透明基材表面上に高分子電解質からなる高分子電解質膜が形成され. この高分子電解質膜が有する極性と異なる極性を有する微粒子を用いる ことによりなされることを特徴とする請求の範囲第 1項記載の反射防止 膜。

3 . 前記高分子電解質膜が、互いに極性の異なる 2種以上の高分子電 解質が積層されて形成された多層膜であることを特徴とする請求の範囲 第 2項記載の反射防止膜。

4 . 前記高分子電解質膜が、架橋された高分子電解質からなる膜であ ることを特徴とする請求の範囲第 2項または第 3項に記載の反射防止膜 c

5 . 前記透明基材表面と前記微粒子との付着が、前記静電的相互作用 による付着に加えて、さらに補強的付着手段により付着されていること を特徴とする請求の範囲第 1項から第 4項までのいずれかに記載の反射 防止膜。

6 . 前記補強的付着手段が、前記透明基材表面と前記微粒子とを化学 的かつ不可逆的に結合させる手段、前記透明基材表面と前記微粒子とを 融着させる手段、および前記微粒子層表面に高分子薄膜を形成する手段 からなる群から選択される少なくとも一つの手段であることを特徴とす る請求の範囲第 5項記載の反射防止膜。

7 . 透明基材と、前記透明基材表面に配され、少なくとも単層の微粒 子を有し、かつ前記透明基材の屈折率より低いバルタの屈折率を有する 微粒子層とを少なくとも具備し、

前記微粒子層が、他の基材表面において基材表面と微粒子との静電的 相互作用により基材表面に微粒子を付着させることにより形成した微粒 子層であり、この微粒子層を前記透明基材上に転写させることにより形 成されたものであることを特徴とする反射防止膜。

8 .前記他の基材表面と前記微粒子との静電的相互作用による付着が、 前記他の基材表面上に高分子電解質からなる高分子電解質膜が形成され. この高分子電解質膜が有する極性と異なる極性を有する微粒子を用いる ことによりなされることを特徴とする請求の範囲第 7項記載の反射防止 膜。

9 . 前記高分子電解質膜が、互いに極性の異なる 2種以上の高分子電 解質が積層されて形成された多層膜であることを特徴とする請求の範囲 第 8項記載の反射防止膜。

1 0 . 前記高分子電解質膜が、架橋された高分子電解質からなる膜で あることを特徴とする請求の範囲第 8項または第 9項に記載の反射防止 膜。

1 1 . 前記微粒子層中の微粒子と前記透明基材表面との付着が、前記 透明基材表面と前記微粒子とを化学的かつ不可逆的に結合させる手段、 前記透明基材表面と前記微粒子とを融着させる手段、前記微粒子層表面 に高分子薄膜を形成する手段、および前記透明基材表面に粘着層を形成 し前記微粒子を前記粘着層上に粘着させる手段からなる群から選択され る少なくとも一つの付着手段によりなされることを特徴とする請求の範 囲第 7項から第 1 0項までのいずれかに記載の反射防止膜。

1 2 . 前記微粒子層の膜厚が、 5 0 n m〜 3 0 0 n mの範囲内である ことを特徴とする請求の範囲第 1項から第 1 1項までのいずれかに記載 の反射防止膜。

1 3. 前記微粒子層に用いられる微粒子が、ポリマー類の微粒子お よびシリ力微粒子からなる群から選択される少なくとも 1種類以上の微 粒子であり、その平均粒径が 5 0 η π!〜 3 0 0 n mの範囲内であること を特徴とする請求の範囲第 1項から第 1 2項までのいずれかに記載の反 射防止膜。

1 4. 前記微粒子層が少なくとも二つの層から構成されており、その 内の一層の II莫厚が、 5 0 η π!〜 3 0 0 n mの範囲内であり、もう一つの 層が、 1 n n!〜 5 0 n mの範囲内であることを特徴とする請求の範囲第 1項から第 1 1項までのいずれかに記載の反射防止膜。

1 5.前記微粒子層中の微粒子の体積分率が、 1 0体積%〜 9 0体積% の範囲内であることを特徴とする請求の範囲第 1項から第 1 4項までの いずれかに記載された反射防止膜。

1 6. 前記微粒子層のバルタの屈折率が、 1 . 0 5〜 1 . 7 0の範囲 内であることを特徴とする請求の範囲第 1項から第 1 5項までのいずれ かに記載された反射防止膜。

1 7. 透明基材表面に電荷を付与する電荷付与工程と、この透明基材 表面に付与された電荷と逆符号の表面電荷を有する微粒子を含有する微 粒子分散液を前記透明基材上に塗布し、微粒子層を形成する微粒子層形 成工程と、前記微粒子層が形成された透明基材を洗浄する洗浄工程とを 含むことを特徴とする反射防止膜の製造方法。

1 8. 前記透明基材表面に電荷を付与する電荷付与工程が、透明基材 表面に、極性の異なる少なくとも 2種類以上の高分子電解質を積層して 形成した多層膜からなる高分子電解質膜および/または架橋された高分 子電解質からなる高分子電解質膜を設ける工程であることを特徴とする 請求の範囲第 1 7項記載の反射防止膜の製造方法。

1 9 . 基材表面に電荷を付与する電荷付与工程と、この基材表面に付 与された電荷と逆符号の表面電荷を有する微粒子を含有する微粒子分 散液を前記透明基材上に塗布し、微粒子層を形成する微粒子層形成工程 と、前記微粒子層が形成された基材を洗浄する洗浄工程と、前記基材上 に形成された微粒子層を透明基材上に転写する転写工程とを有すること を特徴とする反射防止膜の製造方法。

2 0 . 前記転写工程において、前記微粒子層中の微粒子と前記透明基 材表面との付着手段が、前記透明基材表面と前記微粒子とを化学的かつ 不可逆的に結合させる手段、前記透明基材表面と前記微粒子とを融着さ せる手段、前記微粒子層表面に高分子薄膜を形成する手段、および前記 透明基材表面に粘着層を形成し前記微粒子を前記粘着層上に粘着させる 手段からなる群から選択される少なくとも一つの手段であることを特徴 とする請求の範囲第 1 9項記載の反射防止膜の製造方法。

2 1 . 基材表面に電荷を付与する電荷付与工程と、この基材表面に付 与された電荷と逆符号の表面電荷を有する微粒子を含有する微粒子分散 液を前記透明基材上に塗布し、微粒子層を形成する微粒子層形成工程と、 前記微粒子層が形成された基材を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で 洗浄された前記透明基材上の微粒子層を原版として刷版材料により型取 りして刷版を作製する刷版作製工程と、前記刷版作製工程で製造された 刷版を用いて透明基材上に微粒子複製層を形成する微粒子複製層形成ェ 程とを有することを特徴とする反射防止膜の製造方法。

2 2 . 前記基材表面に電荷を付与する電荷付与工程が、基材表面に、 極性の異なる少なくとも 2種類以上の高分子電解質を積層して形成した 多層膜からなる高分子電解質膜および Zまたは架橋された高分子電解質 からなる高分子電解質膜を設ける工程であることを特徴とする請求の範 囲第 1 9項から第 2 1項までのいずれかに記載の反射防止膜の製造方法 c