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1. WO2001077733 - APPAREIL MICROLITHOGRAPHIQUE DE BALAYAGE ET PROCEDE DE PROJECTION D'UNE IMAGE A CHAMP DE VISION IMPORTANT

Numéro de publication WO/2001/077733
Date de publication 18.10.2001
N° de la demande internationale PCT/US2001/007641
Date du dépôt international 08.03.2001
CIB
G02B 17/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
08Systèmes catadioptriques
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 17/008
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
008Systems specially adapted to form image relays or chained systems
G02B 17/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
08Catadioptric systems
G03F 7/70225
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70225Catadioptric systems, i.e. documents describing optical design aspect details
G03F 7/70358
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Déposants
  • ULTRATECH STEPPER, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • JEONG, Hwan, J.
  • MARKLE, David, A.
Mandataires
  • JONES, Allston, L.
Données relatives à la priorité
09/543,60905.04.2000US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SCANNING MICROLITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR PROJECTING A LARGE FIELD-OF-VIEW IMAGE ON A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL MICROLITHOGRAPHIQUE DE BALAYAGE ET PROCEDE DE PROJECTION D'UNE IMAGE A CHAMP DE VISION IMPORTANT
Abrégé
(EN)
A simple -1X, catadioptric projection relay system (e.g., a modified Wynne-Dyson relay) (108) is combined with a linear scanning and object and image indexing systems to provide good imagery over a useful field which is two or more times wider than the field size of the projection system and arbitrarily long. The projection system (108) has opposed and parallel object and image planes and produces an image in which object and image vectors in one direction are parallel and in a normal direction are opposed. The reticle (202) and substrate (110) are clamped and scanned together in the parallel direction and are indexed in the normal direction by equal and opposite amounts between scans. An example shows how a 2.5 micron resolution, i-line projection system with a 300 mm wide field could be used to expose a 550 mm substrate in two scans to yield a very high throughput.
(FR)
L'invention concerne un simple système de relais de projection catadioptrique 1X (par exemple, un relais Wynne-Dyson modifié) étant combiné avec un balayage linéaire et des systèmes d'indexage d'objets et d'images de manière à obtenir une bonne imagerie sur un champ utile étant au moins deux fois plus large que les dimensions du champ du système de projection, et long de manière aléatoire. Le système de projection (108) présente des plans opposés et parallèles d'objets et d'images et produit un image dans laquelle des vecteurs objets et images sont parallèles dans une direction et opposés dans une direction normale. Le réticule (202) et substrat (110) sont fixés et balayés ensemble dans la direction parallèle et indexés dans la direction normale par des quantités égales et opposées entre les balayages. Un exemple montre la manière dont une système de projection à raie I à résolution de 2,5 microns, doté d'un champ d'une largeur de 300 mm, peut être utilisé pour exposer un substrat de 550 mm dans des balayages de manière à produire un rendement très élevé.
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