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1. (WO2001077241) COMPOSITION POUR POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE DE METAL A FAIBLE CINTRAGE ET INSENSIBILITE AU SURPOLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/077241    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/011075
Date de publication : 18.10.2001 Date de dépôt international : 05.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.10.2001    
CIB :
C09G 1/02 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 94054 (US)
Inventeurs : SUN, Lizhong; (US).
LI, Shijian; (US).
REDEKER, Fred, C.; (US)
Mandataire : PATTERSON, William, B.; Thomason, Moser & Patterson, LLP, Suite 1500, 3040 Post Oak Boulevard, Houston, TX 77056 (US)
Données relatives à la priorité :
09/543,777 05.04.2000 US
Titre (EN) COMPOSITION FOR METAL CMP WITH LOW DISHING AND OVERPOLISH INSENSITIVITY
(FR) COMPOSITION POUR POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE DE METAL A FAIBLE CINTRAGE ET INSENSIBILITE AU SURPOLISSAGE
Abrégé : front page image
(EN)Polishing compositions for metal CMP with reduced dishing and overpolish insensitivity are formulated to have a low static etching rate at high temperatures, e.g., higher than 50 °C. Embodiments include abrasive-free polishing compositions comprising one or more chelating agents, one or more oxidizers, one or more corrosion inhibitors, one or more acids to achieve a pH of about 3 to about 10 and deionized water.
(FR)Cette invention a trait à des compositions de polissage pour polissage chimique mécanique de métal à cintrage réduit et insensibilité au surpolissage. La formulation de ces compositions est calculée pour qu'elles ne présentent qu'un faible taux d'attaque à des températures élevées, par exemple, supérieures à 50 °C. Certains modes de réalisation portent sur des compositions de polissage sans abrasif renfermant un ou plusieurs agents chelatants, un ou plusieurs agents oxydants, un ou plusieurs inhibiteurs de corrosion et un ou plusieurs acides, afin d'obtenir un pH compris entre 3 et 10, et de l'eau déionisée.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)