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1. WO2001075951 - APPAREIL D'EXPOSITION DE PLUSIEURS FAISCEAUX COMPRENANT UNE LENTILLE ELECTROMAGNETIQUE MULTIAXIALE

Numéro de publication WO/2001/075951
Date de publication 11.10.2001
N° de la demande internationale PCT/JP2001/002285
Date du dépôt international 22.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 02.11.2001
CIB
H01J 37/317 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
H01J 2237/0635
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06341Field emission
0635Multiple source, e.g. comb or array
H01J 2237/1205
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
12electrostatic
1205Microlenses
H01J 37/3177
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
3177Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
Déposants
  • ADVANTEST CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • HAMAGUCHI, Shinichi
  • HARAGUCHI, Takeshi
  • YASUDA, Hiroshi
Mandataires
  • RYUKA, Akihiro
Données relatives à la priorité
2000-10261904.04.2000JP
2000-25188523.08.2000JP
2000-34266103.10.2000JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) MULTIBEAM EXPOSURE APPARATUS COMPRISING MULTIAXIS ELECTRON LENS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION DE PLUSIEURS FAISCEAUX COMPRENANT UNE LENTILLE ELECTROMAGNETIQUE MULTIAXIALE
Abrégé
(EN)
An electron beam exposure apparatus is characterized by comprising a multiaxis electron lens for independently focusing electron beams, a base member provided generally parallel to the multiaxis electron lens, and a lens strength adjuster for adjusting the lens strength of the multiaxis electron lens given to the electron beams passing through the apertures of the electron lens. The multiaxis electron lens preferably has lens portion magnetic conductive parts having apertures and arranged generally parallel. The apertures of the lens portion magnetic conductive parts desirably form lens apertures through which the electron beams pass. The lens strength adjuster preferably includes an adjusting electrode extending from the base member to the lens aperture, insulated from the lens portion magnetic conductive parts, and surrounding the electron beams. The lens strength adjuster may be provided with an adjusting coil surrounding the electron beams in the direction in which the electron beams are projected from the base member and adapted to adjust the strength of magnetic field produced around the lens aperture.
(FR)
L'invention porte sur un appareil d'exposition de faisceaux électroniques qui se caractérise en qu'il comprend un lentille électromagnétique multiaxiale permettant de focaliser indépendamment des faisceaux électroniques, un élément de base généralement parallèle à la lentille électromagnétique multiaxiale et un ajusteur d'intensité pour régler l'intensité de la lentille électromagnétique multiaxiale par rapport aux faisceaux électroniques traversant les orifices de la lentille. La lentille électromagnétique possède de préférence des pièces conductrices magnétiques dont les orifices sont généralement parallèles. Les orifices des pièces conductrices magnétiques d'une partie de la lentille sont traversés par les faisceaux électroniques. L'ajusteur d'intensité comprend de préférence une électrode s'étendant de l'élément de base à l'orifice de la lentille, isolée des pièces conductrices magnétiques d'une partie de la lentille et entourant les faisceaux électroniques. Cet ajusteur peut être pourvu d'un enroulement entourant les faisceaux électroniques dans le sens de projection de ceux-ci, depuis l'élément de base, et est adapté pour régler l'intensité du champ magnétique généré autour de l'orifice de la lentille.
Également publié en tant que
EP2001915702
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