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1. WO2001075948 - APPAREIL D'EXPOSITION A DES FAISCEAUX MULTIPLES A OBJECTIF A PLUSIEURS AXES, OBJECTIF A PLUSIEURS AXES DE FOCALISATION DE FAISCEAUX D'ELECTRONS, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS

Numéro de publication WO/2001/075948
Date de publication 11.10.2001
N° de la demande internationale PCT/JP2001/002282
Date du dépôt international 22.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 02.11.2001
CIB
H01J 37/317 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
H01J 2237/0635
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06341Field emission
0635Multiple source, e.g. comb or array
H01J 2237/1205
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
12electrostatic
1205Microlenses
H01J 37/3174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
H01J 37/3177
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
3177Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
Déposants
  • ADVANTEST CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • HAMAGUCHI, Shinichi
  • HARAGUCHI, Takeshi
  • YASUDA, Hiroshi
Mandataires
  • RYUKA, Akihiro
Données relatives à la priorité
2000-10261904.04.2000JP
2000-25188523.08.2000JP
2000-34265703.10.2000JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) MULTIBEAM EXPOSURE APPARATUS COMPRISING MULTIAXIS ELECTRON LENS, MULTIAXIS ELECTRON LENS FOR FOCUSING ELECTRON BEAMS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION A DES FAISCEAUX MULTIPLES A OBJECTIF A PLUSIEURS AXES, OBJECTIF A PLUSIEURS AXES DE FOCALISATION DE FAISCEAUX D'ELECTRONS, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé
(EN)
An electron beam exposure apparatus characterized by comprising a multiaxis electron lens having lens apertures for passing therethrough electron beams and independently focusing the electron beams and dummy apertures for not passing therethrough the electron beams. The multiaxis electron lens has the dummy apertures preferably around the periphery of the region where the lens apertures are provided. The multiaxis electron lens may have the dummy apertures multiply around the periphery of the region where the lens apertures are provided.
(FR)
L'invention porte sur un appareil d'exposition à des faisceaux d'électrons multiples consistant en un objectif à plusieurs axes comportant des ouvertures munies de lentilles traversées par des faisceaux d'électrons et les focalisant indépendamment, et des ouvertures factices ne laissant pas passer les faisceaux d'électrons. Lesdites ouvertures factices, disposées de préférence autour de la zone des ouvertures munies de lentilles, peuvent être multipliées.
Également publié en tant que
EP2001915699
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