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1. (WO2001074916) FLUOROPOLYMERE RENFERMANT UN GROUPE QUI REAGIT AUX ACIDES ET COMPOSITION PHOTORESIST A AMPLIFICATION CHIMIQUE CONTENANT LEDIT FLUOROPOLYMERE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/074916    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/002897
Date de publication : 11.10.2001 Date de dépôt international : 03.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.09.2001    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-nishi 2-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8323 (JP) (Tous Sauf US).
ARAKI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOH, Meiten [KR/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Yoshito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIKAWA, Takuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOYAMA, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Tetsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ARAKI, Takayuki; (JP).
KOH, Meiten; (JP).
TANAKA, Yoshito; (JP).
ISHIKAWA, Takuji; (JP).
AOYAMA, Hirokazu; (JP).
SHIMIZU, Tetsuo; (JP)
Mandataire : ASAHINA, Sohta; NS Building 2-22, Tanimachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 540-0012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-102799 04.04.2000 JP
2000-177494 13.06.2000 JP
2001-61896 06.03.2001 JP
Titre (EN) NOVEL FLUOROPOLYMER HAVING ACID-REACTIVE GROUP AND CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
(FR) FLUOROPOLYMERE RENFERMANT UN GROUPE QUI REAGIT AUX ACIDES ET COMPOSITION PHOTORESIST A AMPLIFICATION CHIMIQUE CONTENANT LEDIT FLUOROPOLYMERE
Abrégé : front page image
(EN)A novel fluoropolymer having acid-reactive groups which highly transmits energy rays (radiation) in the vacuum ultraviolet region (157 nm); and a fluoropolymer base material which contains the fluoropolymer and is suitable for use in a photoresist. The fluoropolymer has a segment represented by the formula -(M1)-(M2)-(A)- (wherein M1 is a structural unit having a functional group which is eliminated or decomposed with an acid; M2 is a structural unit derived from a fluoroacrylate; and A is a structural unit derived from other copolymerizable monomer), comprises 1 to 99 mol% the structural unit (M1), 1 to 99 mol% the structural unit (M2), and 0 to 98 mol% the structural unit (A1), provided that (M1)/(M2) is from 1/99 to 99/1 by mole, and has a number-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. The fluoropolymer base material contains a fluoropolymer having acid-reactive groups, such as the fluoropolymer described above, and is suitable for use in a photoresist.
(FR)Nouveau fluoropolymère qui renferme des groupes réagissant aux acides et qui assure une transmission élevée du rayonnement d'énergie dans la région de l'ultraviolet extrême (157 nm) ; et matériau à base du fluoropolymère renfermant ledit fluoropolymère et pouvant peut être utilisé dans un photorésist. Ce fluoropolymère : comporte un segment représenté par la formule (M1) (M2) - (A) (dans laquelle M1 est un motif avec un groupe fonctionnel qui est éliminé ou décomposé par un acide ; M2 est un motif tiré d'un fluoroacrylate ; et A est un motif tiré d'un autre monomère copolymérisable). Il se compose de 1 à 99 % mol du motif (M1), de 1 à 99 % mol du motif (M2) et de 0 à 98 % mol du motif (A), à condition que le rapport (M1)/(M2) aille de 1/99 à 99/1 par mole, et a un poids moléculaire moyen en nombre compris entre 1 000 et 1 000 000. Le matériau de base du fluoropolymère comprend un fluoropolymère avec groupes acides, tel que le fluoropolymère susmentionné, et peut être utilisé comme photorésist.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)