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1. WO2001074824 - PROCEDE CHIMIQUE D'ELIMINATION ET D'ANALYSE D'IMPURETES DE BORE DANS DU TETRAETHYLORTHOSILICATE (TEOS)

Numéro de publication WO/2001/074824
Date de publication 11.10.2001
N° de la demande internationale PCT/US2001/009082
Date du dépôt international 21.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 11.10.2001
CIB
C07F 7/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7Composés contenant des éléments des groupes 4 ou 14 de la classification périodique
02Composés du silicium
04Esters des acides siliciques
C07F 7/20 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7Composés contenant des éléments des groupes 4 ou 14 de la classification périodique
02Composés du silicium
08Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si
20Purification; Séparation
CPC
C07F 7/045
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
04Esters of silicic acids
045Esters of monosilicic acid
C07F 7/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
08Compounds having one or more C—Si linkages
20Purification, separation
Déposants
  • ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • BAUM, Thomas, H. [US]/[US] (UsOnly)
  • XU, Chongying [CN]/[US] (UsOnly)
  • HEDGES, Frank, R. [US]/[US] (UsOnly)
  • BERNHARD, David, Daniel [US]/[US] (UsOnly)
  • BENAC, Brian, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • BATTLE, Scott, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • LANSDOWN, John, M. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • BAUM, Thomas, H.
  • XU, Chongying
  • HEDGES, Frank, R.
  • BERNHARD, David, Daniel
  • BENAC, Brian, L.
  • BATTLE, Scott, L.
  • LANSDOWN, John, M.
Mandataires
  • ZITZMANN, Oliver, A., M.
Données relatives à la priorité
09/540,58431.03.2000US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) CHEMICAL METHOD FOR REMOVAL AND ANALYSIS OF BORON IMPURITIES IN TETRAETHYLORTHOSILICATE (TEOS)
(FR) PROCEDE CHIMIQUE D'ELIMINATION ET D'ANALYSE D'IMPURETES DE BORE DANS DU TETRAETHYLORTHOSILICATE (TEOS)
Abrégé
(EN)
A method of purifying tetraethylorthosilicate (TEOS) to remove boron impurities therefrom, and a related method of analyzing TEOS to determine concentration of boron impurities therein.
(FR)
La présente invention concerne un procédé permettant de purifier du tétraéthylorthosilicate (TEOS) afin d'en éliminer les impuretés de bore, ainsi qu'un procédé correspondant permettant d'analyser le TEOS afin de déterminer sa concentration en impuretés de bore.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international