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1. WO2001073813 - PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE VARIER UN CHAMP MAGNETIQUE POUR CONTROLER UN VOLUME DE PLASMA

Numéro de publication WO/2001/073813
Date de publication 04.10.2001
N° de la demande internationale PCT/US2001/008712
Date du dépôt international 16.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 19.09.2001
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/321
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
321the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
H01J 37/32623
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32623Mechanical discharge control means
H01J 37/32688
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
32688Multi-cusp fields
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US] (AllExceptUS)
  • BAILEY, Andrew, D. [US]/[US] (UsOnly)
  • HEMKER, David, J. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • BAILEY, Andrew, D.
  • HEMKER, David, J.
Mandataires
  • OLYNICK, Mary, R.
  • WEAVER, Jeffrey, K.
Données relatives à la priorité
09/536,00027.03.2000US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR VARYING A MAGNETIC FIELD TO CONTROL A VOLUME OF A PLASMA
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE VARIER UN CHAMP MAGNETIQUE POUR CONTROLER UN VOLUME DE PLASMA
Abrégé
(EN)
A plasma confinement arrangement for controlling the volume of a plasma while processing a substrate inside a process chamber includes a chamber within which a plasma is both ignited and sustained for processing. The chamber is defined at least in part by a wall and further includes a plasma confinement arrangement. The plasma confinement arrangement includes a magnetic array disposed around the periphery of the process chamber configured to produce a magnetic field which establishes a cusp pattern on the wall of the chamber. The cusp pattern on the wall of the chamber defines areas where a plasma might damage or create cleaning problems. The cusp pattern is shifted to improve operation of the substrate processing system and to reduce the damage and/or cleaning problems caused by the plasma's interaction with the wall. Shifting of the cusp pattern can be accomplished by either moving the magnetic array or by moving the chamber wall. Movement of either component may be continuous (that is, spinning one or more magnet elements or all or part of the wall) or incremental (that is, periodically shifting the position of one or more magnet elements or all or part of the wall).
(FR)
L'invention concerne un système de confinement de plasma permettant de contrôler un volume de plasma durant le traitement d'un substrat à l'intérieur d'une chambre de traitement. Le système comprend une chambre d'allumage et d'entretien du plasma pour le traitement. La chambre est définie au moins en partie par une paroi, comprenant en outre un arrangement pour le confinement du plasma. Cet arrangement comporte un alignement magnétique à la périphérie de la chambre, selon une configuration adaptée à la production d'un champ magnétique engendrant un dessin cuspidé sur la paroi de la chambre. Ce dessin définit des zones dans lesquelles un plasma pourrait occasionner des dégâts ou poser des problèmes de nettoyage. Le dessin en question est déplacé, ce qui permet d'améliorer le fonctionnement du système de traitement de substrat et de limiter les dégâts et/ou les problèmes de nettoyage susmentionnés. Le déplacement du dessin peut résulter du déplacement de l'alignement magnétique ou de la paroi de la chambre. Ce déplacement peut être continu (giration d'un ou plusieurs éléments magnétiques sur tout ou partie de la paroi) ou incrémentiel (déplacement périodique de la position d'un ou plusieurs éléments magnétiques sur tout ou partie de la paroi).
Également publié en tant que
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