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1. (WO2001073151) PROCEDE POUR REGULER DES PROCESSUS DE PULVERISATION CATHODIQUE REACTIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2001/073151 N° de la demande internationale : PCT/EP2001/003443
Date de publication : 04.10.2001 Date de dépôt international : 27.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 19.10.2001
CIB :
C23C 14/00 (2006.01)
Déposants : BRINGMANN, Udo[DE/DE]; DE (UsOnly)
HÖING, Thomas[DE/DE]; DE (UsOnly)
MALKOMES, Niels[DE/DE]; DE (UsOnly)
SZYSZKA, Bernd[DE/DE]; DE (UsOnly)
VERGÖHL, Michael[DE/DE]; DE (UsOnly)
PÖCKELMANN, Ralf[DE/DE]; DE (UsOnly)
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.[DE/DE]; Leonrodstrasse 54 80636 München, DE (AllExceptUS)
Inventeurs : BRINGMANN, Udo; DE
HÖING, Thomas; DE
MALKOMES, Niels; DE
SZYSZKA, Bernd; DE
VERGÖHL, Michael; DE
PÖCKELMANN, Ralf; DE
Mandataire : PFENNING, MEINIG & PARTNER GBR; Mozartstrasse 17 80336 München, DE
Données relatives à la priorité :
100 15 150.727.03.2000DE
Titre (EN) METHOD FOR CONTROLLING REACTIVE SPUTTERING PROCESSES
(FR) PROCEDE POUR REGULER DES PROCESSUS DE PULVERISATION CATHODIQUE REACTIVE
(DE) VERFAHREN ZUR REGELUNG VON REAKTIVEN SPUTTERPROZESSEN
Abrégé :
(EN) The invention relates to a method for controlling DC, MF or HF excited reactive sputtering processes. The partial pressure of the reactive gas is measured by a $g(l) probe and the reactive gas flow is controlled by means of a conventional flux regulator according to the measuring results thus obtained.
(FR) L'invention concerne un procédé pour réguler des processus de pulvérisation cathodique réactive, excitée au moyen d'un courant continu, de moyennes fréquences ou de hautes fréquences. Selon ce procédé, la pression partielle du gaz réactif est mesurée par une sonde $g(l), et le flux de gaz réactif est régulé sur la base des résultats de mesure au moyen d'un régulateur de débit classique.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung von DC-, MF- oder HF- angeregten reaktiven Sputterprozessen, wobei der Reaktivgaspartialdruck mit einer $g(l)-Sonde gemessen wird und basierend auf diesen Messergebnissen der Reaktivgasfluss mit einem konventionellen Massenflussregler geregelt wird.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)