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1. (WO2001017075) CHAMBRE LASER AVEC ISOLANT PRINCIPAL DE TRAVERSEE A ELECTRODE ENTIEREMENT INTEGREE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/017075    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/022643
Date de publication : 08.03.2001 Date de dépôt international : 17.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.03.2001    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01S 3/036 (2006.01), H01S 3/038 (2006.01), H01S 3/225 (2006.01)
Déposants : CYMER, INC. [US/US]; 16750 Via Del Campo Court, San Diego, CA 92127-1712 (US) (Tous Sauf US).
WEBB,R., Kyle [US/US]; (US).
PARTLO, William, N. [US/US]; (US)
Inventeurs : WEBB,R., Kyle; (US).
PARTLO, William, N.; (US)
Mandataire : ROSS, John, R.; Cymer, Inc., Legal Department - MS/3-2A, 16750 Via Del Campo Court, San Diego, CA 92127-1712 (US)
Données relatives à la priorité :
09/386,938 31.08.1999 US
Titre (EN) LASER CHAMBER WITH FULLY INTEGRATED ELECTRODE FEEDTHROUGH MAIN INSULATOR
(FR) CHAMBRE LASER AVEC ISOLANT PRINCIPAL DE TRAVERSEE A ELECTRODE ENTIEREMENT INTEGREE
Abrégé : front page image
(EN)A feedthrough structure (280) of a gas discharge laser chamber conducts electric power through the wall of a sealed gas enclosure (212) to a single piece electrode (218) inside the enclosure. The feedthrough structure includes a single piece integrated main insulator (276) larger than the electrode. The main insulator (276) is compressed between the electrode (218) and the wall of the enclosure (212). The surfaces forming interfaces between the electrode and the single piece insulator are the insulator and the wall are all very smooth to permit the parts to expand and contract as the chamber temperature varies. The feedthrough structure also provides mechanical support and alignment for the electrode and includes seals (184) to prevent gas leakage around the feedthrough structure.
(FR)Cette invention concerne une structure de traversée (280) de chambre laser à décharge de gaz qui achemine de l'énergie électrique à travers la paroi d'une enceinte à gaz hermétique (212) jusqu'à une électrode d'une seule pièce (218) à l'intérieur de cette enceinte. La structure de traversée comprend un isolant principal intégré (276) d'une seule pièce, plus gros que l'électrode. L'isolant principal (276) se trouve comprimé entre l'électrode (218) et la paroi de l'enceinte (212). Le surfaces formant interface entre l'électrode et l'isolant d'une seule pièce sont toutes très lisses de manière à laisser les pièces se dilater et se contracter au gré des variations de température de la chambre. La structure de traversée, qui assure également le maintien et l'alignement mécaniques de l'électrode, comprend des joints (184) empêchant les fuites de gaz autour de ladite structure.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)